Cap03 - eBook Jubileu APCD 2007

8/3/2019 Cap03 - eBook Jubileu APCD 2007

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SISTEMAS ADESIVOS ATUALIDADES E PERSPECTIVAS

Reis, AF; Pereira, PNR; Giannini, M

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SISTEMAS ADESIVOS - ATUALIDADES E PERSPECTIVAS

Andr Figueiredo Reis Professor Adjunto, rea de Dentstica, Centro de Ps-Graduao Pesquisa e

Extenso, Universidade Guarulhos

Patrcia Nbrega Rodrigues Pereira Professora Assistente, Universidade Catlica de Braslia e University of North

Carolina at Chapel Hill

Marcelo Giannini Professor Associado, Departmento de Odontologia Restauradora, Faculdade de

Odontologia de Piracicaba, UNICAMP

Este captulo parte integrante do eBook lanado durante o 25 Congresso Internacionalde Odontologia de So Paulo 25 CIOSP (janeiro de 2007) e distribudo gratuitamente

pelo site www.ciosp.com.br, pertencente Associao Paulista de Cirurgies Dentistas APCD.


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1. INTRODUOA adeso de materiais resinosos aostecidos dentais est presente em grandeparte dos procedimentos restauradoresrealizados na prtica clnica odontolgica.As observaes de diversos pesquisadoresassociadas ao conhecimento acumuladonos ltimos 50 anos proporcionaram odesenvolvimento da Odontologia Adesiva(Buonocore, 1955). A evoluo dastcnicas e materiais polimricospermitem o restabelecimento da estticae funo aos tecidos dentais debilitadospor crie, fratura, alteraes de cor, mal-formaes ou mal-posicionamento. Osprocedimentos adesivos so utilizados emdiversas reas da Odontologia, podendoser usados em restauraes diretas eindiretas, na aplicao de selantes, nafixao de braquetes ortodnticos, nacimentao de pinos intra-radiculares, naesplintagem de dentes periodontalmentecomprometidos, e tm sido recentementeindicados para a obturao de canaisradiculares.

Por definio, a funo primordial dossistemas adesivos manter unidos doismateriais de natureza igual ou distinta,aderindo superfcie de contato de cadaum. Como citado anteriormente, osagentes de unio esto indicados emdiferentes aplicaes. Desta forma, emtodo procedimento restaurador adesivoexistem sempre no mnimo dois materiaisaderentes (biolgicos ou sintticos) a serunidos por intermdio de um adesivo (Fig.1). As caractersticas estruturais eultramorfolgicas de cada parte envolvidana adeso tm um papel importante nodesempenho das interfaces. Portanto, de fundamental importncia que ocirurgio-dentista tenha conhecimentono apenas dos sistemas de uniodisponveis no mercado e do seumecanismo de ao, mas tambm dossubstratos e materiais envolvidos naadeso e o mecanismo de unio a cadaum destes, para que se consiga o mximodesempenho do procedimentorestaurador adesivo realizado.

Figura 1 - Esquema representativo das diferentes interfaces que podem ser formadas pelos diferentessubstratos e materiais envolvidos nos procedimentos restauradores adesivos.

Esmalte ouDentina

Sistema adesivo

Resina Composta ou CimentoResinoso

Cermica, Metal, Resina Indireta,Pinos Pr-fabricados


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O esmalte e a dentina so os substratosbiolgicos envolvidos nos procedimentosadesivos, e dentre os materiais sintticos

envolvidos nos procedimentosrestauradores encontram-se a resinacomposta, os cimentos resinosos, osmateriais ionomricos, as porcelanas e osmetais. Cada um destes substratosapresentam caractersticas peculiares ediferentes modos de interao com ossistemas adesivos. Os substratos

biolgicos so mais complexos ecertamente a dentina apresenta-se comoo maior desafio para os procedimentos

adesivos, devido ao seu alto contedoorgnico e umidade em relao aoesmalte. Existem no mercado diferentesestratgias de unio aos tecidos dentaisduros. Neste captulo sero abordados osaspectos relacionados aos tecidos dentaise aos materiais restauradores, e asestratgias de unio a estes substratos.

2. COMPOSIO DOS SUBSTRATOS DENTAISASPECTOS RELACIONADOS UNIOPara uma melhor compreenso dosprocedimentos de unio aos substratosdentais de fundamental importnciaque o cirurgio-dentista tenhaconhecimento das caractersticas dostecidos dentais envolvidos nosprocedimentos adesivos. Devido ao seualto contedo mineral, os procedimentosadesivos no esmalte so considerados

mais previsveis. O esmalte compostopor aproximadamente 88% de mineral,2% de matriz orgnica e 10% de gua(em volume).Por outro lado, a adeso dentina considerada um procedimento maiscomplexo. A maior parte do dente composta pela dentina, um substratoformado por aproximadamente 50% dematerial inorgnico e 30% de matriaorgnica, que apresenta tbulos

preenchidos por prolongamentosodontoblsticos e fluido dentinrio, querespondem por 20% do volume total,proporcionando-lhe uma caractersticamida (Marshall et al., 1997). A parteorgnica composta por colgeno, queresponde por 95% do total, e os outros 5%so as protenas no-colagenosas, queapesar de estarem presente em pequenaquantidade, so de fundamental

importncia na manuteno da estruturae reexpanso da rede de fibrilas decolgeno expostas pelo condicionamentocido (Pereira et al., 2006). A parteinorgnica consiste de cristais dehidroxiapatita (Gage et al., 1989).Os tbulos so uma das caractersticasmais marcantes da dentina, e apermeabilidade deste tecido uma

conseqncia direta de sua presena(Gage et al., 1989). A luz dos tbulos circundada por uma dentina altamentemineralizada, denominada dentinaperitubular contendo uma grandequantidade de cristais de hidroxiapatita epouca matriz orgnica (Marshall et al.,1997). Os tbulos so separados peladentina intertubular composta por umamatriz de colgeno reforada por cristaisde hidroxiapatita.

A microestrutura da dentina e suaspropriedades so os principaisdeterminantes de boa parte dasoperaes em Odontologia Restauradora.Por ser um complexo biolgico hidratado,a dentina sofre mudanas fisiolgicas,pelo envelhecimento e devido doenacrie, produzindo diferentes formas dedentina devido a alteraes noscomponentes fundamentais da estrutura,


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determinadas por mudanas no seuarranjo, inter-relaes ou qumica(Marshall et al., 1997). Estas formas dedentina so, de certa forma, as mais

importantes com relao aosprocedimentos restauradores adesivos.Os tbulos dentinrios representam ocaminho percorrido pelos odontoblastosda cmara pulpar at a juno amelo-dentinria ou cemento. Os tbulosapresentam formato cnico e convergempara a polpa, desta forma sua distribuioe densidade variam dependendo dalocalizao e de alteraes no tecidodentinrio (Giannini et al., 2001). A

densidade tubular na dentina profunda

de aproximadamente 45.000tbulos/mm2 enquanto na dentinasuperficial esta densidade diminui paraaproximadamente 20.000 tbulos/mm2;

o dimetro dos tbulos varia de 2,5 mem dentina profunda a 0,9 m prximo

juno amelo-dentinria (Garberoglio &Brnnstrm, 1976). Estes valores soinversamente proporcionais resistnciade unio, j que o mecanismo de adesodepende, em sua maior parte, dareteno micromecnica produzida pelainfiltrao e polimerizao dosmonmeros resinosos na regio dedentina desmineralizada (Giannini et al.,

2001).

3. MECANISMOS DE UNIO AOS SUBSTRATOS DENTAISA unio aos substratos dentais ocorreprincipalmente atravs da interaomicromecnica do agente de unio com oesmalte condicionado e com as fibrilascolgenas expostas na dentina. Para quese consiga uma unio ao substratodentinrio com resinas adesivas, precisoaplicar um cido para que a camadasuperficial da dentina tenha a fasemineral totalmente ou parcialmenteremovida. Em seguida, esta regio queera antes ocupada por mineral substituda pela soluo do adesivo. O

agente de unio precisa infiltrar nestarede de fibrilas colgenas e polimerizar insitu, formando o que se denominacamada hbrida (Fig. 2) (Nakabayashi et

al., 1982). A qualidade da adeso estdiretamente relacionada eficincia dapenetrao dos monmeros nos espaosinterfibrilares, ao completo envolvimentopela soluo adesiva das fibrilascolgenas expostas pelo condicionamentocido (Figs. 3 e 4), e ao grau de conversodo adesivo. Para a obteno da unio aoesmalte aplica-se um cido para sepromover um aumento na rea e naenergia livre de superfcie atravs dadesmineralizao (Fig. 5). A uniodepende tambm da reteno

micromecnica entre a resina adesiva eas porosidades promovidas pelocondicionamento cido ao redor e nocentro dos prismas de esmalte (Fig. 6).


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Figura 2 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso ilustrando a formaoda camada hbrida (CH). (RC) resina composta, (AD) adesivo, (D) dentina.

Figura 3 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso de uma seco transversal da dentina aps a aplicaodo cido fosfrico a 37% por 15 segundos. A regio entre as setas representa uma zona desmineneralizada

de aproximadamente 4 m. Aps a aplicao do cido fosfrico, esta zona precisa ser infiltrada pelo sistema

AD

CH

D

RC

DTD


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adesivo para que seja forma a camada hbrida. (D) dentina, (TD) tbulo dentinrio.

Figura 4 - Fotomicrografia eletrnica de varredura ilustrando a superfcie dentinriaaps a aplicao do cido fosfrico a 37% por 15 segundos. Note a rede de fibrilas

colgenas disponveis para promover a formao da camada hbrida. (TD) tbulo dentinrio.

Figura 5 - Fotomicrografia eletrnica de varredura ilustrativa da superfcie do esmalte aps o

TD


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condicionamento com cido fosfrico 37%. A aplicao do cido promoveum aumento na rea e na energia livre de superfcie.

Figura 6 - Fotomicrografia eletrnica de varredura demonstrativa da interface de unio resina-esmalte. Notea formao dos tags de resina ao redor dos prismas de esmalte. (RC) resina composta, (AD) adesivo, (E)

esmalte.

3.1. Tcnicas para unio aos substratos dentaisExistem atualmente em uso trsdiferentes maneiras para se promover aunio aos substratos dentais. A primeiradelas necessita de um condicionamentocido prvio. Normalmente utiliza-se o

cido fosfrico, de 30 a 40%, para secondicionar o esmalte e a dentinapreviamente aplicao do adesivo. Asegunda tcnica baseia-se na aplicaode monmeros cidos, sem anecessidade de utilizao de um agentecondicionante, lavagem e controle daumidade na superfcie do dentepreviamente a aplicao da resinaadesiva. Desta forma, espera-se que a

desmineralizao e a infiltrao dosmonmeros ocorram simultaneamente.Existe ainda uma terceira forma de seobter unio aos tecidos dentais, que atravs da utilizao de ionmeros de

vidro modificados por resina. Alm deformarem uma unio micromecnica como substrato, tambm unem-sequimicamente hidroxiapatita presenteno substrato (De Munck et al., 2005).A tcnica que utiliza o condicionamentocido prvio foi por algum tempochamada de tcnica do condicionamentototal. No entanto, a aplicao desteconceito no adequada, pois a tcnica

AD

E

RC


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do condicionamento total foi inicialmentedescrita por Fusayama et al. (1979) comosendo a tcnica para condicionamentosimultmeo do esmalte e da dentina,

quando o condicionamento da dentinaainda no era recomendado. Seguindoeste princpio, os adesivos que utilizammonmeros auto-condicionantes tambmrealizam o condicionamento total.Ao se aplicar o cido fosfrico na tcnicado condicionamento cido prvio, adentina e o esmalte so desmineralizadosa uma profundidade de 3 a 6 m. A unioao esmalte um procedimento maisprevisvel, no entanto a unio dentina

uma tarefa mais complexa, sendo aindabastante questionada quanto durabilidade (Reis et al., 2004; Giannini etal., 2003). Aps a desmineralizao dadentina, recomenda-se a utilizao datcnica mida de unio para se evitar o

colabamento da rede de fibrilascolgenas, o que poderia dificultar ainfiltrao dos monmeros resinosos(Kanca et al., 1992). No entanto, a tcnica

mida tem sido considerada uma tcnicacrtica, pois uma infiltrao deficientepode ocorrer se a dentina estiverdemasiadamente seca, ou o overwetphenomenon pode ocorrer na presenade umidade excessiva. A Figura 7 ilustra oaspecto da dentina aps adesmineralizao com o cido fosfricopor 15 segundos, sendo que a Figura 7Ailustra o aspecto da dentina mida, ondepode-se observar os espaos

interfibrilares para a infiltrao dosmonmeros resinosos, e na Figura 7Bobserva-se a dentina desidratada, ondehouve o colapso das fibrilas colgenas, oque dificulta a infiltrao dos monmerose formao da camada hbrida.

Figura 7 - Fotomicrografias eletrnicas de varredura da superfcie dentinria aps a desmineralizao com ocido fosfrico por 15 segundos. A Figura 7A ilustra o aspecto da dentina mida, onde pode-se observar os

espaos interfibrilares para a infiltrao dos monmeros resinosos. Na Figura 7B observa-se a dentinadesidratada, onde houve o colapso das fibrilas colgenas, o que dificulta

a infiltrao dos monmeros e formao da camada hbrida.

O desenvolvimento dos sistemas auto-condicionantes surgiu com o intuito dereduzir as dificuldades da tcnica midade adeso e simplificar os procedimentosclnicos de aplicao dos adesivos. Nesta

tcnica, primers auto-condicionantescompostos de monmeros cidos soaplicados sobre a dentina coberta pela

smear layersem a necessidade deremoo do material com gua


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subsequentemente. Aps este passosimultneo de condicionamento einfiltrao, uma camada de resinaadesiva hidrfoba ento aplicada sobre

a dentina tratada. Acredita-se que ossistemas adesivos auto-condicionantesdesmineralizam a dentina e infiltram seusmonmeros simultaneamente, evitando ocolapso das fibrilas de colgeno pelasecagem com ar e tambm, a ocorrnciade fibrilas desprotegidas pela resinaaplicada (Tay & Pashley, 2001; Carvalhoet al., 2005). Recentemente, uma tcnicaauto-condicionante de adeso que

consiste em um passo nico de aplicaofoi introduzida. Os adesivos de passonico renem as etapas decondicionamento, infiltrao e adeso em

um nico procedimento. Apesar destessistemas de unio serem comercializadoscomo simplificados, devido ao menornmero de passos de aplicao, eles sona realidade misturas complexas demonmeros resinosos hidrfilos ehidrfobos, solventes, gua e outrosaditivos (Tay & Pashley, 2001; Reis et al.,2006).

3.2. Classificao dos sistemas adesivosExistem na literatura diversasclassificaes para os sistemas adesivos.Eles podem ser classificados por geraes(1, 2, 3 etc); de acordo com o tipo desolvente (a base de gua, lcool ouacetona); presena ou ausncia departculas de carga inorgnica; tipo deativao (fsica, qumica ou dual); modode ao (condicionameto cido prvio ouauto-condicionamento); nmero depassos de aplicao (um, dois ou trspassos); ou nmero de frascos (frasconico, dois frascos). Os adesivos auto-condicionantes podem ainda serclassificados de acordo com o pH dosmonmeros cidos e agressividade dassolues em fracos (pH ~ 2) ou fortes (pH< 1).A classificao dos adesivos por geraesfoi utilizada por muitos anos, eacompanha a evoluo dos sistemasadesivos. No entanto, ela no descreve oque os adesivos realmente representam e

j est em desuso (Bayne et al., 2005).Devido a rpida evoluo dos materiais etcnicas, fica difcil atualizar este sistemade classificao. De acordo com aclassificao por geraes j temosdisponveis no mercado a 7 gerao deadesivos, que representada pelos

adesivos auto-condicionantes de passonico que so condicionados em umnico frasco. Como exemplo de marcascomerciais deste grupo de adesivostemos o i-Bond (Heraeus-Kulzer), oOptiBond All-In-One (Kerr Denatl) e oClearfil S3 Bond (Kuraray Medical).Atualmente em uso no mercadoencontramos adesivos de 4, 5, 6 e 7geraes.No momento existe uma classificaopreferencial, que se baseia na estratgiade ao (condicionamento cido prvio etch and rinse; ou auto-condicionamento self-etching) e no nmero de passosutilizados durante o procedimento adesivo(Fig. 8). Dependendo de como os trspassos fundamentais decondicionamento, aplicao do primer eaplicao da resina adesiva sorealizados ou combinados, os adesivosesto disponveis em sistemas de trspassos, dois passos, ou de passo nico. Osubstrato pode ser tratado atravs dautilizao do cido fosfrico ou demonmeros cidos, que condicionam e seinfiltram simultaneamente.Como pode ser observado na Figura 8, acombinao das etapas de aplicao dosadesivos resultou na diminuio do


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nmero de passos, e consequentementena simplificao dos procedimentosadesivos. Esta simplificao dosprocedimentos ganhou rapidamente a

aceitao dos clnicos. No entanto,

importante ressaltar que estasimplificao no resultanecessariamente em uma melhor unioaos tecidos dentais.

Figura 8 - Representao esquemtica da classificao dos sistemas adesivos baseada na estratgia deao (condicionamento cido prvio etch and rinse; ou auto-condicionamento self-etching) e no nmerode passos utilizados durante o procedimento adesivo. Dependendo de como os trs passos fundamentais de

condicionamento, aplicao do primer e aplicao da resina adesiva so realizados ou combinados, osadesivos esto disponveis em sistemas de trs passos, dois passos, ou de passo nico.

4. COMPOSIO DOS SISTEMAS ADESIVOSCada sistema adesivo apresenta uma

composio prpria, com caractersticaspeculiares que influenciam diretamentena efetividade da unio. importante

conhecer quais componentes bsicos de

um sistema adesivo e suas caractersticaspara saber selecionar e indic-los nasdiferentes situaes clnicas.

4.1. MonmerosA composio monomrica dos adesivos um dos fatores determinantes nodesempenho da unio. Para que seobtenha unio a um substrato mido

como a dentina, a utilizao demonmeros hidrfilos indispensvel.Um dos monmeros hidrfilos maisutilizados o HEMA (2-hidroxietil


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metacrilato). Este monmero hidrfiloest presente principalmente nacomposio dos primers de adesivos detrs passos e dois passos que utilizam o

condicionamento cido prvio, sendotambm encontrado em sistemas auto-condicionantes. Este monmeroapresenta um radical hidrfilo, que temafinidade pelo substrato mido, e umradical hidrfobo que ir promover apolimerizao com outros monmeros.Este monmero monofuncional de baixopeso molecular de fundamentalimportncia para permitir a infiltrao doadesivo no substrato dentinrio. No

entanto, este monmero, por si s no capaz de promover a formao de umarede polimrica com propriedadesmecnicas adequadas para a unio aostecidos dentais.Assim, monmeros hidrfobosbifuncionais so necessrios parapromover a unio dos materiais resinosos.Os monmeros hidrfobos maiscomumente utilizados so o Bis-GMA(bisfenol-A diglicidil eter dimetacrilato) e o

UDMA (uretano dimetacrilato). Estesmonmeros hidrfobos esto presentesem maior concentrao na composiodo adesivo ou bond (terceiro passo dos

sistemas que utilzam o condicionamentocido prvio e segundo passo dossistemas auto-condicionantes). Mastambm so encontrados em menores

propores nos outros frascos. Nossistemas de dois passos que empregam ocondicionamento cido prvio e nossistemas auto-condicionantes de passonico esto misturados com os outroscomponentes na mesma soluo.Nos sistemas auto-condicionantesencontramos os monmeros cidos. Acapacidade auto-condicionante destessistemas decorre da incorporao demonmeros que contm radicais

derivados do cido carboxlico, fosfricoou seus sters, ou da incorporao decidos orgnicos ou minerais comoaditivos. (Tay & Pashley, 2001). Estesmonmeros desmineralizam a dentina e oesmalte e infiltram no tecidosimultaneamente. Dentre os monmerosauto-condicionantes disponveis nosprodutos comerciais podemos citar comoexemplo o MDP (10-cido fosfricometacriloiloxidecametileno), MAC10 (10-

cido metacriloiloxidecametilenomalnico) e o 4-MET (4-cido trimelticometacriloiloxietil).

4.2. SolventesTodos os sistemas adesivos apresentamalgum tipo de solvente em suacomposio. Os solventes maiscomumente utilizados so a gua, oetanol e a acetona. Sua principal funo facilitar o molhamento da superfciedental pelos monmeros resinosos.Nos sistemas que empregam ocondicionamento cido prvio, aps ocondicionamento com cido fosfrico ossolventes, por serem hidrfilos, penetramna dentina mida, agindo comocarreadores de monmeros. Em seguida,se unem com as partculas de gua,

elevando sua presso de vapor. Ao aplicarum leve jato de ar (recomendado portodos os fabricantes), os solventesevaporam, removendo a gua que estavapresente no substrato e deixando nosubstrato os monmeros que seropolimerizados para formar a camadahbrida (Reis et al., 2003).O passo de aplicao de um leve jato dear aps a aplicao do adesivo no podeser negligenciado, pois a no evaporaodo solvente e da gua do substrato podeprejudicar a polimerizao,comprometendo a performance do


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adesivo. Outro fato importante, e quedeve ser levado em considerao pelosclnicos a importncia dos solventespara a promoo da adeso, como

descrito no pargrafo acima. Os solventes,especialmente a acetona, so altamentevolteis em temperatura ambiente. Destaforma, importante que o adesivo sejadispensado apenas no momento de suautilizao, pois a sua volatilizaopreviamente a aplicao podecomprometer a infiltrao dosmonmeros na zona desmineralizada(Reis et al., 2003). importante ressaltar,que os adesivos base de acetona

normalmente apresentam uma altaconcentrao de solvente e baixaconcentrao monomrica em suacomposio. Assim importante aplicarvrias camadas de adesivo at que seperceba que toda a superfcie dental estbrilhante aps a aplicao do jato de ar.A grande vantagem de se utilizar primersmisturados em gua (disponvel nossistemas de 3 passos), a possibilidadede se reexpandir a rede de firbrilas

colgenas, caso ela tenha sido colapsadapela secagem com ar aps a lavagem docido fosfrico (Fig.7). Este um dosfatores que contribui para os bons

resultados observados para os sistemasde 3 passos (De Munck et al., 2005).Nos sistemas auto-condicionantes, osolvente utilizado normalmente a guae alguns sistemas apresentam tambm oetanol em pequena quantidade. Apresena de gua essencial parapermitir a ionizao dos monmeroscidos e a desmineralizao do esmalte edentina subjacente (Tay & Pashley 2001).Uma maior concentrao de gua no

primer ou no adesivo auto-condicionanteresulta em uma maior agressividade(capacidade de desmineralizao)(Hiraishi et al., 2005). Mais uma vez importante ressaltar a importncia daaplicao de um jato de ar para aevaporao desta gua, que apesar deimportante durante a aplicao doadesivo, pode ser prejudicial unio ereduzir a vida clnica da restaurao.

4.3. Modo de ativaoOs sistemas adesivos so em sua maioriafotoativados. Os sistemas ativados por luzapresentam nas suas composies osistema de aminas aromticas efotoiniciadores, como a canforoquinona,para que a reao de polimerizaoocorra atravs da ativao por luz. Noentanto, existem situaes clnicas nasquais impossvel utilizar a luz comintensidade suficiente para se iniciar apolimerizao do adesivo, como nacimentao de pinos pr-fabricados e dealgumas restauraes indiretas. Nestescasos, optamos por sistemas adesivosque apresentam ativao qumica oudual.

Os sistemas adesivos duais ou de duplapresa foram desenvolvidos para osprocedimentos de cimentao derestauraes indiretas e pinos pr-fabricados. A principal vantagem destaclasse de adesivos permitir melhorunio da pea prottica ao preparocavitrio minimizando os problemas deadaptao nas margens e na regiointerna do preparo. Os adesivos duais soaplicados nas estruturas dentais, nofotoativados e interagem com o cimentoresinoso aplicado. Todo o conjunto fotopolimerizado de uma s vez e a luzidealmente deveria ter a capacidade deatravessar a pea prottica e atingir ocimento resinoso e o adesivo com


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intensidade suficiente para promover altograu de converso dos materiais. Noscasos onde a luz no consegue seraplicada em intensidades adequadas, o

mecanismo qumico de polimerizaodeve assegurar a converso monomrica(Menezes et al., 2006). Outra indicaoclnica desses adesivos na cimentaode ncleos ou pinos pr-fabricados noscanais radiculares, cuja fonte luminosa doaparelho fotopolimerizador no consegueatingir as regies mais profunda do canal(Foxton et al., 2003).A maioria dos sistemas de cura dualapresenta alm do sistema de aminas

aromticas e fotoiniciadores encontradosnos adesivos fotoativados, o perxido debenzola e aminas tercirias, que geramradicais livres para que a reao depolimerizao ocorra mesmo na ausncia

da fonte de luz. Outros sistemas adesivosde dupla ativao contm sulfinatosaromticos de sdio, componentesdiferentes da reao perxido-amina

(Arrais et al., 2006). As solues do sal desulfinato de sdio so utilizadas emadesivos de frasco nico como oPrime&Bond NT Dual Cure(Dentsply/Caulk) e Optibond Solo PlusDual Cure (Kerr Dental). O sistemaperxido-amina tem sido utilizado nosadesivos convencionais, os quaisapresentam o primer e o adesivo emfrascos separados. So exemplos ossistemas Scotchbond Multipurpose Plus

(3M Espe), All Bond 2 (Bisco) e OptibondFL Dual Cure (Kerr Dental). O sistemaScotchbond Multipurpose Plus apresentatambm um frasco Ativador para o primerque contem o sal sulfinato.

4.4. Partculas de carga

Alm dos componentes orgnicos nossistemas adesivos, componentesinorgnicos tambm podem seradicionados com a inteno de semelhorar as propriedades mecnicas dasinterfaces. Alguns fabricantes especulamque as partculas podem infiltrar nacamada hbrida, o que poderia melhoraras propriedades mecnicas desta. Pormanlises em Microscopia Eletrnica deTransmisso demonstram que estainfiltrao muito difcil de ocorrer (Fig.9). As partculas normalmenteaglomeram-se no topo da camada hbridae na embocadura dos tbulos dentinrios.A adio de partculas de carga contribuiprincipalmente na diminuio da hidrofiliadas interfaces. O tamanho, distribuio etratamento das partculas varia entre ossistemas, mas existe uma tendncia para

a utilizao de partculas nanomtricas deslica (entre 5 a 20 nm para algunsadesivos) na tentativa de se infiltrar aspartculas na camada hbrida.As partculas de carga podem estar noresina hidrfoba bond, como nosadesivos auto-condicionantes de doispassos Clearfil SE Bond (Kuraray Medical),Clearfil Protect Bond (Kuraray Medical) eUnifil Bond (GC Inc.) ou pode serencontrada tambm nos adesivos de doispassos que utilizam o condicionamentocido prvio Adper Single Bond Plus (3MEspe), Prime&Bond NT (Dentsply/Caulk) eOptibond SOLO Plus (Kerr Dental).Adesivos auto-condicionantes de passonico como o Clearfil S3 Bond (KurarayMedical) tambm apresentam partculasde carga em sua composio.


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Figura 9 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso ilustrando a interface de unio resina-dentina produzidapor um sistema adesivo de dois passos que utiliza o condicionamento cido prvio e apresentananopartculas de carga em sua composio (Prime&Bond NT). Note o acmulo das partculas de carga notopo da camada hbrida e na embocadura do tbulo dentinrio (crculo pontilhado). (AD) adesivo, (CH)camada hbrida, (D) dentina.

4.5. Liberao de FlorA propriedade de liberao de fluoretospor materiais ionomricos e seusbenefcios no aumento da resistncia desmineralizao e inibio de criesrecorrentes so bem conhecidos.Propriedade esta que desejvel a todosos materiais restauradores. Baseadoneste princpio, diversos fabricantesbuscaram desenvolver tecnologias paraque seus materiais tambm possamapresentar liberao de Flor. Dentre ossistemas adesivos disponveis nomercado que apresentam incorporaode algum composto de Flor podemoscitar o OptiBond SOLO FL (Kerr Dental),One-up Bond F (Tokuyama), Prime&BondNT (Dentsply/Caulk), Reactmer Bond

(Shofu Inc.) e Clearfil Protect Bond(Kuraray Medical).Diferentes formas de incorporao deFlor so utilizadas por cada fabricante, oque pode influenciar no modo equantidade de Flor liberado. O Florpode ser incorporado em partculas devidro de Fluoraluminiosilicato (One-upBond F, Reactmer Bond), cristais deFluoreto de Sdio (Clearfil Protect Bond),hidrofluoreto de cetilamina (Prime&BondNT), entre outros. Em um estudo recente,Hara et al. (2005) detectaram a liberaode Fluor em diferentes sistemas adesivos.No entanto, foi demonstrado que mesmoliberando Flor, alguns adesivos no

AD

CH

D


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foram capazes de impedir a formao decries recorrentes.O sistema adesivo Clearfil Protect Bondque apresenta incorporao de um

monmero antibacteriano no primer e departculas de Fluoreto de Sdio na soluodo adesivo mostrou resultados

promissores em relao estabildade daunio ao longo do tempo tanto in vitroquanto in vivo (Donmez et al., 2005).Especula-se que a liberao de Flor

tambm pode ser importante para inibir aao de enzimas (MMPs) nas interfaces(Donmez et al., 2005).

5. CARACTERSTICAS ULTRAMORFOLGICAS DAS INTERFACESComo citado anteriormente, existemdiferentes modos de se promover a unioaos tecidos dentais. importante que oclnico tenha em mente como cadasistema de unio interage com o esmalteou a dentina, para saber qual a melhorestratgia de unio em cada situao.Por utilizarem um cido mais agressivo(pH~0.2) os sitemas que empregam ocido fosfrico 37% formam uma camadahbrida de aproximadamente 5 m (Fig.2), cerca de dez vezes mais espessa que acamada hbrida formada por sistemasauto-condicionantes que apresentam umpH em torno de 2. Estes monmeros

cidos mais moderados formam umacamada hbrida de aproximadamente 0,5m (Fig. 10), o que no resultanecessariamente em uma resistncia deunio inferior. No entanto, alguns estudostm demonstrado que estecondicionamento mais brando poderiacomprometer a unio ao esmalte quandoele no foi desgastado durante o preparocavitrio, pois a superfcie exposta aomeio oral apresenta-se mais resistente desmineralizao, e consequentementemais resistente ao dos monmerosauto-condicionantes mais brandos.

AD

D

2 m

SP

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Figura 10 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso ilustrando a interface de unio resina-dentinaproduzida por um sistema adesivo auto-condicionante de passo nico (Clearfil S3 Bond). A camada hbrida

(CH) formada de aproximadamente 0,5 m de espessura. Note a presena do smear plug (SP). (AD)adesivo, (D) dentina.

Por outro lado, esta menordesmineralizao por parte dos sistemasauto-condicionantes mais brandosapresenta algumas vantagens quanto unio dentina. Por apresentar umamenor desmineralizao do substrato, adentina apenas parcialmentedesmineralizada. Assim, comumobservar a presena de smear plugs(parte da smear layer que permanece naembocadura dos tbulos dentinrios), oque contribui na reduo da sensibilidadeps-operatria e tambm diminui apermeabilidade dentinria (Fig. 10).Cada adesivo auto-condicionante (tantoos de dois passos quanto os de passonico) apresenta em sua composio ummonmero funcional especfico, queexerce um papel fundamental na suaperformance (Yoshida et al., 2004). Afrmula molecular especfica domonmero funcional e a taxa de

dissoluo do sal de clcio formadoinfluenciam a eficincia e a estabilidadeda unio. O potencial de interagirquimicamente com a hidroxiapatitapresente na interface pode ser um auxlioimportante na obteno de uma unioduradoura. Esta interao ocorre somentecom adesivos auto-condicionantes maisbrandos, que desmineralizam a superfciedentinria parcialmente. Foi relatado queo 10-MDP, monmero funcional dosadesivos auto-condicionantes de doispassos Clearfil SE Bond, Clearfil ProtectBond e do adesivo auto-condicionante depasso nico Clearfil Tri-S Bond (Kuraray),pode interagir quimicamente com ahidroxiapatita formando um sal bastanteestvel. Por outro lado, o potencial deunio qumica do 4-MET, foi descrito comosubstancialmente menor (Yoshida et al.,2004).

6. MECANISMOS DE UNIO AOS MATERIAIS RESTAURADORESOs sistemas adesivos foram inicialmentedesenvolvidos para promover a unio dasresinas compostas ao esmalte e dentina. Aps a adequada aplicao epolimerizao do sistema de unio, existeainda uma camada fina (entre 10 e 20

m) na superfcie, de monmeros no-polimerizados devido inibio dapolimerizao pelo oxignio. Esta camadaapresenta grupos vinlicos reativos quevo reagir com a resina compostapermitindo a copolimerizao, econsequentemente a unio a estematerial (Nakabayashi & Pashley, 2000).Deve-se tomar cuidado para no havernenhuma contaminaao da superfcie

aderida previamente aplicao docompsito.Um mecanismo similar ao descrito para aresina composta acontece para oscimentos resinosos (que tambm soresinas compostas, porm com menor

quantidade de carga e maior quantidadede monmeros diluentes pra se obteruma menor viscosidade). Porm,recentemente foi descoberta a ocorrnciade incompatibilidade entre cimentosresinos e resinas compostas para ncleode preenchimento com sistemas adesivosauto-condicionantes de passo nico eadesivos de frasco nico que apresentambaixo pH (Tay et al., 2003a).


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O mecanismo de unio s cermicasodontolgicas pode variar dependendo dacomposio do material (Soares et al.,2005). O tratamento mais comum para o

condicionamento das porcelanas autilizao do cido hidrofluordrico a 9,5%.A aplicao do cido hidrofluordricopromove microretenes na superfcie daporcelana (Fig. 11 A-B); em seguida,aplica-se um agente silano que irpromover uma unio qumica daporcelana ao material resinoso decimentao. Este tratamento indicadopara cermicas feldspricasconvencionais (2 minutos) (Noritake,

Duceram), reforadas por leucita (60segundos) (IPS Empress, Cergogold), ou

reforadas por disilicato de Ltio (20segundos) (IPS Empress II). Por outro lado,as cermicas reforadas por alumina ouzircnia (In Ceram Alumina, In Ceram

Zirconium, Procera AllCeram) no socondicionadas pelo cido hidrofluordrico,devido ao seu baixo contedo de slica.Para o preparo da superfcie internadestas cermicas tem sido recomendadoo jateamento com partculas de Al2O3 de50 m ou cobertura com slica (Rocatec,3M Espe). Alm disso, recomenda-se autilizao de cimentos resinosos queapresentam em sua composio omonmero 10-MDP (ex.: Panavia F,

Kuraray Medical) ou o monmero 4-META(SuperBond C&B, Sun Medical).

Figura 11 - As fotomicrografias eletrnicas de varredura demonstram o aspecto da superfcia de umacermica reforada por disilicato de Ltio (IPS Empress II) antes (A) e aps (B) o condicionamento com cido

hidrofluordrico a 9,5% por 20 segundos.


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7. APLICAO CLNICAOs casos apresentados ilustram a aplicao dos procedimentos adesivos em duassituaes distintas.

7.1. Restaurao direta em resina compostaNo primeiro caso (Figs 12-27), foirealizada uma restaurao direta em umacavidade profunda de um dente vital.Neste caso, importante levar emconsiderao que a aplicao de umaproteo pulpar indireta com um cimentoa base de Hidrxido de Clcio na regiomais profunda da cavidade pode reduzir apermeabilidade dentinria nesta regio,evitando o contato de monmerossintticos com a polpa, o que poderiaacontecer aps a aplicao do cidofosfrico. Este procedimento ajuda areduzir a possibilidade de sensibilidadeps-operatria. importante ressaltar quea proteo pulpar deve ser realizada antesda aplicao do cido fosfrico. No casode uma cavidade extensa, recomenda-seiniciar a plicao do cido fosfrico pela

margem de esmalte, e em seguida,extender para a superfcie dentinria,desta forma evita-se osobrecondicionamento da dentina. Alavagem do cido deve ser realizada pelomesmo tempo de aplicao, 15segundos. A manuteno da umidadeaps a remoo do excesso de gua ,sem dvida, um dos passos mais crticosda tcnica. O excesso de umidade deveser removido por capilaridade com papelabsorvente ou com uma bolinha dealgodo. A desidratao da dentina bemcomo o excesso de gua podemprejudicar a unio. A aplicao doadesivo deve ser seguida de um leve jatode ar para evaporao dos solventes,

juntamente com a umidaderemanescente.

Figura 12 - Aspecto inicial de uma restauraode amlgama que apresentava-se

com leso de crie recorrente.Figura 13 - Isolamento absoluto


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Figura 14 - Incio da remoo da restaurao comuma ponta diamantada.

Figura 15 - Remoo do tecido cariado com umabroca carbide.

Figura 16 - Aspecto da cavidade aps a remoo dadentina infectada por crie. Figura 17 - Aplicao de um cimento de Hidrxido deClcio como protetor pulpar indireto.

Figura 18 - Aspecto da superfcie dentinria aps aaplicao do cimento de Hidrxido de Clcio.

Figura 19 - Incio da aplicao do cido fosfrico pelamargem de esmalte.


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Figura 20 - Extenso da aplicao do cido fosfricopara a superfcie dentinria por 15 segundos.

Figura 21 - Aps a lavagem do cido o excesso degua foi removido com uma cnula de suco. Deve-

se tomar cuidado para no desidratar a dentina. Oexcesso de umidade deve ser removido por

capilaridade com uma bolinha de algodo ao umpedao de papel absorvente.

Figura 22 - Aplicao do adesivo. Figura 23 - Aps a aplicao de um leve jato de arpara evaporao dos solventes, a superfcie dacavidade deve estar brilhante.

Figura 24 - A insero da resina compostadeve ser realizada em incrementos

de no mximo 2 mm de altura.Figura 25 - Realizao da escultura.


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Figura 26 - Aspecto inicial da restaurao deamlgama deficiente.

Figura 27 - Aspecto final da restaurao concluda.A aplicao da resina compostaincrementalmente tambm importantepara diminuir as tenses geradas pelacontrao de polimerizao da resinacomposta, o que contribui para preservara unio promovida pelo sistema adesivo.

A tcnica incremental tambm garantemelhores propriedades mecnicas resina composta, pois incrementosmaiores que 2 mm no soadequadamente ativados pela fonte deluz.7.2. Restaurao indireta

As Figuras 28 a 39 ilustram os passos decimentao de um pino pr-fabricado defibra de vidro, construo de um ncleode preenchimento com resina composta ecimentao de duas coroas de cermica(IPS Empress 2). Previamente cimentao dos pinos pr-fabricados, oscondutos radiculares foram condicionadoscom cido fosfrico a 37% durante 15segundos. Em seguida, foram lavados

abundatementes e o excesso da umidadefoi removido com pontas de papelabsorvente. Devido dificuldade defotoativao nesta regio, foi utilizado umsistema adesivo com ativao dual. Apsa cimentao dos pinos, os dentes foramreconstrudos com resina composta, paraque fossem realizados os preparos,provisrios e os procedimentos demoldagem.


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Figura 28 - Aspecto pr-operatrio dosdentes 11 e 21.

Figura 29 - Os condutos foram preparados para acimentao resinosa de dois pinos pr-fabricados de

fibra de vidro.

Figura 30 - Aspecto imediatamente aps acimentao dos pinos.

Figura 31 - Aspecto dos preparos realizados.

Figura 32 - Condicionamento cido por 15 segundos. Figura 33 - Aplicao do sistema adesivo.

Figura 34 - Condicionamento das peas de porcelana(IPS Empress II) com cido hidrofluordrico por 20

segundos.

Figura 35 - Aspecto interno das peas aps ocondicionamento.


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Figura 36 - Aplicao do agente de silanizao. Figura 37 - Aspecto aps a cimentao.

Figura 38 - Aspecto do sorriso da pacientepreviamente ao tramento.

Figura 39 - Aspecto ps-operatrio.As Figuras 32 e 33 ilustram osprocedimentos de condicionamento eaplicao do adesivo. Nas Figuras 34 a 36pode-se observar o preparo das peaspreviamente cimentao:condicionamento da porcelana com cido

hidrofluordrico durante 20 segundos, eaplicao do agente de silanizao. AFigura 37 ilustra o aspecto logo aps acimentao das peas. O aspecto antes eaps o tratamento pode ser observadonas Figuras 38 e 39.

8. DURABILIDADE DOS PROCEDIMENTOS ADESIVOSApesar dos avanos alcanados pelosadesivos, trabalhos apontam para umapossvel degradao da unio da resinacomposta aos tecidos dentais ao longo dotempo na presena de gua (Giannini etal., 2003). A reduo da resistncia deunio de sistemas adesivos dentina atribuda degradao das fibrilascolgenas e/ou da resina adesiva.

As taxas de soro de gua e solubilidadeapresentadas pelos sistemas adesivosaps a sua polimerizao so importantesna determinao da longevidade equalidade marginal da restaurao. Sabe-se que a umidade presente no meio oralou de armazenagem tem um papelimportante no processo de degradaoqumica dos polmeros, apresentando um


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efeito deletrio para a interface resina-dentina (Gpferich, 1996). Trabalhosrecentes demonstram que os sistemasadesivos auto-condicionantes de passo

nico so os mais susceptveis degradao hidroltica ao longo do tempo(Reis et al., 2004). Observando osresultados obtidos com os adesivos auto-condicionantes de passo nico, pode-senotar que ao se aumentar a acidez dasoluo do adesivo, o contedo dosmonmeros cidos e de gua soaumentados, o que resulta em maiorhidrofilia, conduzindo maior taxa desoro de gua, e consequentemente,

menor estabilidade hidroltica (Tay et al.,2003b). Uma caracterstica importantedos adesivos auto-condicionantes de doispassos que pode contribuir para a melhorperformance destes sistemas quandocomparados aos sistemas de passo nico, a camada de resina hidrfoba que aplicada sobre o primer, e pode reduzir asoro de gua (Reis et al., 2004).Foi demonstrado que os adesivos de doispassos que utilizam o condicionamento

cido prvio esto mais susceptveis degradao que os sistemas de trspassos (De Munck et al., 2003). Aaplicao do adesivo em trs passos(cido, primer e adesivo) favorece acopolimerizao do primer, e a menor

hidrofilia da resina polimerizada poderesultar em uma melhor hibridizao emenor susceptibilidade degradaohidroltica. De Munck et al. (2005), aps

realizarem uma extensa reviso daliteratura a respeito da durabilidade daunio produzida por diferentes tcnicasde desmineralizao e infiltrao nosubstrato dental, concluram que atcnica mais eficiente para se produziruma unio duradoura aos tecido dentaisainda a tcnica de trs passos queutiliza o condicionamento cido prvio.Assim, qualquer simplificao nosprocedimentos adesivos resultaria em

uma reduo na eficincia da unio.Segundo os autores, a nica tcnica quese aproxima deste padro a tcnicaauto-condicionante de dois passos.As interfaces de unio resina-dentina sedegradam em trs estgios. Primeiro, agua absorvida pelo polmero,desencadeando a degradao qumica(Gfperich, 1996). Segundo, produtos dedegradao, monmeros no reagidos eoligmeros so removidos da camada

hbrida e da camada de adesivo. Terceiro,as fibrilas de colgeno expostas podemser degradadas por metaloproteinases(MMPs) presentes na dentina ou saliva(Pashley et al., 2004).

8.1. NanoinfiltraoO termo nanoinfiltrao foi introduzidopara se descrever a ocorrncia de espaosnanomtricos dentro da camada hbrida,mesmo na ausncia de uma fenda nainterface de unio (Sano et al., 1995).Esta tcnica utiliza um traador de baixopeso molecular como o nitrato de prata(AgNO3) para evidenciar tais porosidadesna interface. Posteriormente, esta rea deunio observada em microscocopiaeletrnica. A deposio de gros de prata

na camada hbrida dos sistemas queutilizam o condicionamento cido prvio atribuda existncia de regies onde asfibrilas colgenas no foram totalmenteenvolvidas pela resina adesiva, ou onde aresina no foi adequadamentepolimerizada (Fig. 40). A degradao daunio tem sido atribuda penetrao defluidos nestas porosidades.Recentemente, uma nova forma demanifestao da nanoinfiltrao nas


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interfaces foi relatada (Tay et al., 2002). Adeposio de gros de prata foi observadano s na camada hbrida, mas tambmna camada de adesivo (Fig. 41). Devido ao

aspecto de manifestao dananoinfiltrao nestes adesivos seassemelharem ao aspecto observado nadegradao da resina epxica utilizada

para o isolamento de cabos detransmisso de energia eltrica, o termowater-trees (ou rvores de gua) foiatribudo. As diferenas na hidrofilia e no

contedo de gua dos adesivos podeminfluenciar diretamente os padres denanoinfiltrao observados.

Figura 40 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso ilustrativa da manifestao da nanoinfiltrao em umainterface resina-dentina produzida por um sistema adesivo de 2 passos que uliza o condicionamento cido

prvio. (CH) camada hbrida, (RC) resina composta, (AD) adesivo, (D) dentina.


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Figura 41 - Fotomicrografia eletrnica de transmisso ilustrativa da manifestao da nanoinfiltrao em umainterface resina-dentina produzida por um sistema adesivo auto-condicionante de passo nico. As pontas de

setas apontam a formao das water-trees. (CH) camada hbrida, (RC) resina composta,(AD) adesivo, (D) dentina.

9. FALHAS COMUNS QUE PODEM PREJUDICAR A UNIOExistem algumas falhas que ocorrem comcerta freqncia durante as atividadesclnicas que se evitadas ou contornadas,podem certamente contribuir para umamaior longevidade dos procedimentosrestauradores. A Tabela 1 ilustra estasfalhas.Uma falha bastante comum sem

dvida, a contaminao do campooperatrio por saliva ou sangue durante oprocedimento restaurador. O ideal que oisolamento absoluto seja utilizado sempreque possvel, mas em alguns casos oisolamento relativo pode tambm serindicado. No entanto, a manuteno deum campo seco e livre de contaminantes de fundamental importncia. Outroproblema que pode acontecer durante a

aplicao dos sistemas que utilizam ocondicionamento prvio com cidofosfrico a desidratao da dentina.Nestes casos, a tcnica mida de unioestaria comprometida, pois ocolabamento das fibrilas colgenas podecomprometer a infiltrao dosmonmeros resinosos e formao da

camada hbrida. Este problema pode sercontornado pela aplicao dos primershidrfilos nos sistemas de 3 passos. Porserem compostos principalmente de guae HEMA, eles possuem a capacidade dereexpandir a rede de fibrilas colgenas,facilitando a infiltrao dos monmeros eformao da camada hbrida. Para ossistemas de dois passos, pode-se utilizaralguns produtos disponveis no mercado

AD

D

5 m

CH

RC


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como o Gluma (Heraeus Kulzer), noentanto, a reumidificao com gua suficiente para promover a reexpansodas fibrilas colgenas. Assim como a falta

de umidade pode prejudicar a unio, ooverwet phenomenon ou excesso deumidade tambm pode ser prejudicial interface (Hashimoto et al., 2006). Oexcesso de umidade pode promover adiluio da soluo de adesivo,prejudicando a polimerizao ediminuindo a qualidade da interface.Deve-se tomar cuidado especialmente nosngulos da cavidade pois a gua tende aacumular-se nestas regies.

O controle da contrao de polimerizaodas resinas compostas um fatorimportante na manuteno da adeso. Sea tenso de contrao de polimerizaoexceder a resistncia de unio do adesivoa unio pode se romper. Um importanteconceito introduzido por Feilzer et al.(1987) diz respeito configuraocavitria. Os autores estudaram astenses de contrao geradas durante apolimerizao da resina composta em

funo da formato da cavidade. Foidescrito o fator de configurao cavitriaou Fator-C, que a razo entre as

superfcies aderidas e no-aderidas deuma restaurao de resina composta. Emoutras palavras, quanto maior o Fator-C,maiores as tenses transmitidas

interface. Desta forma, recomenda-se ouso de tcnicas incrementais parainsero da resina composta na cavidade(Reis et al., 2003).Em cavidades profundas, devido altapermeabilidade pulpar, recomenda-se aaplicao de um forramento cavitriopara proteo pulpar indireta, como oHidrxido de Clcio ou ionmero de vidro(Costa et al., 2003). A falta desta proteopode promover reaes inflamatrias na

polpa o que pode causar sensibilidadeps-operatria. A aplicao do forramentodeve ser restrita regio de dentina maisprofunda, pois a aplicao nas demaisregies do preparo desnecessria e oexcesso de aplicao pode prejudicar aunio da resina composta cavidade.Apesar do capeamento pulpar direto comsistemas adesivos ser indicado por algunsautores, at a presente data evidnciascientficas nos levam a contra-indicar este

tipo de procedimento (Teixeira et al.,2006).


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10. PERSPECTIVAS PARA O FUTUROCom o avano das pesquisas no campodos materiais restauradores adesivos, aslimitaes destes procedimentos tm sidoconhecidas ao mesmo tempo que novastecnologias vm sendo desenvolvidaspara tornar os procedimentos maissimples, mais previsveis eprincipalmente, mais duradouros.A aplicao dos sistemas adesivos vemsendo simplificada de uma formaacelerada nos ltimos anos. H poucosanos atrs os sistemas mais utilizadosestavam disponveis em 3 passos deaplicao, posteriormente surgiram os dedois passos, os de passo nico, e maisrecentemente, surgiram no mercado osmateriais auto-adeivos que nonecessitam da aplicao de nenhumsistema adesivo para se aderirem estrutura dental. Estes materiais soutilizados na cimentao de restauraesindiretas e pinos pr-fabricados. Comoexemplo encontramos o RelyX Unicem(3M ESPE). Novos materiais deste tipoprovavelmente estaro no mercado embreve.A adeso s estruturas dentais se deuincio com a unio ao esmalte. Emseguida, com a evoluo dosprocedimentos adesivos, a unio dentina tornou-se um procedimento

bastante utilizado. Hoje, o novo desafio a adeso dentina intra-radicular. Osncleos metlicos fundidos estogradativamente sendo substitudos porpinos pr-fabricados de fibra de vidro, quepodem ser unidos estrutura dental porintermdio dos cimentos resinosos.Recentemente, os materiais resinospassaram a ser indicados inclusive para a

obturao radicular nos tratamentosendodnticos (Teixeira et al., 2004).O grande desafio da Odontologia Adesiva promover uma unio estvel ao longodo tempo. No entanto, a degradao dosmateriais resinosos um eventoprevisvel. Para reduzir a velocidade dedegradao, os fabricantes tentamproduzir materiais menos hidrfilos e commelhores propriedades mecnicas aps asua polimerizao. Ao mesmo tempo,tenta-se reduzir a contrao volumtricadas resinas compostas durante a suapolimerizao, para que menos tensessejam transmitidas s interfaces resina-dentina/resina-esmalte.Muito tem se falado a respeito dadegradao dos materiais resinososadesivos, e da possivel degradao dasfibrilas colgenas expostas na interfacepor MMPs. Hebling et al. (2006)demonstraram recentemente, que autilizao de clorexidina como inibidor deMMPs, aplicada aps o condicionamentocom cido fosfrico, resultou naparalizao da degradao das camadashbridas em dentes decduos. Carrilho etal. (2006) demonstraram um efeitopositivo na preservao da camadahbrida in vivo em dentes permanentes.Recentemente, Bedran-Russo et al.

(2006) sugeriram um tratamento capazde reforar a estrutura orgnica dadentina, aumentando o nmero deligaes cruzadas entre as fibrilas decolgeno, o que poderia deix-las maisresistentes contra a degradao, alm demelhorar as suas propriedadesmecnicas.Com o intuito de se obter uma unio maisresistente, alguns cientistas buscaram


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inspirao na nautereza, para tentardesvendar e mimetizar o mecanismo peloqual alguns crustceos conseguem seaderir a outros materiais na condio

mais adversa possvel: de baixo dgua.Anlogos sintticos contendo opolipeptdeo DOPA=L-3,4-dihidroxifenilalanina, que mimetizam asprotenas adesivas naturais destesanimais marinhos foram formuladosrecentemente. Adesivos baseados nestaidia j esto em aplicao em algumasreas da medicina, e no futuro espera-se

que sejam aplicados tambm naOdontologia (Tay et al., 2002).Um entendimento fsico-qumico dosprocessos de degradao e eroso dos

polmeros, assim como da degradao docolgeno do tipo I a chave para amelhor compreenso dos problemasrelacionados longevidade dasrestauraes adesivas, e provavelmente,para a sua soluo. O esforo combinadoda biologia molecular e qumica depolmeros certamente contribuirbastante na promoo de um selamentoresistente e durvel dos tecidos dentais.

AGRADECIMENTOSOs autores agradecem: ao Prof. Dr. Gilberto Borges Soares e Prof. Dr. Ana Maria Spohr porterem gentilmente cedido as imagens apresentadas na Figura 7; ao Prof. Adriano Sapata eao CD aluno do curso de mestrado em Dentstica da Universidade Guarulhos MarcosKirihata pela realizao do caso apresentado nas Figuras 12 a 27; CD Aline Ramett Pucinie ao CD Paulo Moreira Vermelho participantes do curso de atualizao em Dentstica daACDC pela realizao do caso apresentado nas Figuras 28 a 39; e ao Prof. Dr. Elliot W.Kitajima (NAP/MEPA, ESALQ/USP) pelo suporte tcnico para realizao dasfotomicrografias eletrnicas de varredura.

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Cap03 - eBook Jubileu APCD 2007

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