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MKS Instruments, Inc. 는 반도체 제조, Thin-flim 제조, 광학 저장 미디어, 평판 디스플레이 / 유기EL 조 및 의료용 이미징 장비 등에서 광범위하게 사용되고 있는 공정 제어 솔루션 공급업체입니다. 주요 생산 품목으로는, RF/DCpower 및 복합적인 가스를 이용한 제조 공정에서의 측정, 제어 및 모니터링을 위한 계측기기, 진공부품 및 subsystem등으로 구성되어 있습니다. MKS 제품은 높은 기술력을 바탕으로, 고객 의 수율 증대 및 생산성 향상을 위한 주요 핵심부품으로 적용되고 있습니다. MKS는 세계 최고의 품질과 기술력으로 하기와 같은 제품 인프라가 구축되어 있습니다. 공정용 챔버로 유입되고 배출되는 가스들의 유량 관리 공정 중의 가스들의 압력 측정, 혼합 및 제어 가스 조성 감시 및 분석 외부 환경으로부터의 공정 환경 보호 공정으로의 플라즈마 소스 파워 전달 공정용 및 챔버클리닝용 반응 가스 생성 센서류, 서브시스템류와 제어시스템류 사이의 디지털 커뮤니케이션 구축 공급 및 배기 가스의 감시 및 분석 공정 재연성을 위한 계측기 교정 특정 분야의 적용을 위한 서브시스템 제품들간의 새로운 조합 구성 MKS 제품들은 정확성, 안정성과 재연성 높은 기술로 세계적인 신뢰를 받고 있으며, 이러한 특징들은, 고객님들의 안정적인 공정 진행을 가능하게 합니다. Company Info

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MKS Instruments, Inc. 는 반도체 제조, Thin-flim 제조, 광학 저장 미디어, 평판 디스플레이 / 유기EL 제조 및 의료용 이미징 장비 등에서 광범위하게 사용되고 있는 공정 제어 솔루션 공급업체입니다. 주요 생산품목으로는, RF/DC용 power 및 복합적인 가스를 이용한 제조 공정에서의 측정, 제어 및 모니터링을 위한계측기기, 진공부품 및 subsystem등으로 구성되어 있습니다. MKS 제품은 높은 기술력을 바탕으로, 고객의 수율 증대 및 생산성 향상을 위한 주요 핵심부품으로 적용되고 있습니다.

MKS는 세계 최고의 품질과 기술력으로 하기와 같은 제품 인프라가 구축되어 있습니다.

• 공정용 챔버로 유입되고 배출되는 가스들의 유량 관리• 공정 중의 가스들의 압력 측정, 혼합 및 제어• 가스 조성 감시 및 분석• 외부 환경으로부터의 공정 환경 보호• 공정으로의 플라즈마 소스 파워 전달• 공정용 및 챔버클리닝용 반응 가스 생성• 센서류, 서브시스템류와 제어시스템류 사이의 디지털 커뮤니케이션 구축• 공급 및 배기 가스의 감시 및 분석• 공정 재연성을 위한 계측기 교정• 특정 분야의 적용을 위한 서브시스템 제품들간의 새로운 조합 구성

MKS 제품들은 정확성, 안정성과 재연성 높은 기술로 세계적인 신뢰를 받고 있으며, 이러한 특징들은, 고객님들의 안정적인 공정 진행을 가능하게 합니다.

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압력 측정 및 제어(Pressure Measurement & Control)유량 측정 및 제어(Flow Measurement & Control)가스 누출 탐지 (Leak Detection)

검∙교정(Calibration)가스 분석(Gas Analysis)제어 정보와 기술(Control Information & Technology)

진공 기술(Vacuum Technology) 파워와 반응용 가스 생성(Power & Reactive Gas) 통합 서브시스템(Integrated Subsystem)의료 전자(Medical Electronics) 바이오 제약(Biopharmaceutical)

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▪ MKS 제품 카테고리

– 압력 측정 및 제어(Pressure Measurement & Control)– 유량 측정 및 제어(Flow Measurement & Control)– 가스 누출 탐지 (Leak Detection)– 검∙교정(Calibration)– 가스 분석(Gas Analysis)– 제어 정보와 기술(Control Information & Technology)– 진공 기술(Vacuum Technology)– 파워와 반응용 가스 생성(Power & Reactive Gas)– 통합 서브시스템(Integrated Subsystem)– 의료 전자(Medical Electronics)– 바이오 제약(Biopharmaceutical)

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▪ 계측 및 제어 시스템 제품 그룹

이 그룹은 압력 측정 및 제어, 유량 측정 및 제어, 누출 탐지, 교정, 가스 분석과 제어 및 정보기술 제품으로 폭넓게 구성되어있습니다.

압력 측정 및 제어용 제품

미국 메사츄세츠 주의 앤도버에 위치한 생산 시설에서는 압력 측정 및 제어용 제품이 생산되며, 고객의 공정 측정 및 제어요구사항에 완벽한 솔루션을 제공하고 있습니다. 압력 제어용 서브시스템에 적용되는 공정용 캐패시턴스 마노미터인Baratron®에서부터, 가스 전달 라인용 압력 트랜스듀서 등에 이르기까지, MKS는 서로 조화롭게 사용될 수 있도록 설계하고고안하여 공급하고 있습니다. Baratron®은MKS 캐패시턴스 마노미터의 트레이드 마크로서, 1961년 처음 생산을 시작한 이후, 수 백만대 이상 판매되어, 공정 엔지니어들과 연구원들 사이에 잘 알려져 있으며, 캐패시턴스 마노미터 부문에서 세계시장 점유율 1위(90% 이상)인 제품입니다. 높은 분해능과 정밀도가 요구되는 압력 측정이 반드시 필요한 경우, Baratron®을이용한 측정 및 계측이 주로 선택되어 사용됩니다. 차압, 절대압 혹은 상대압 방식에 상관없이, 또한, 가스 종류에 상관없이,항상 정확한 압력을 측정해야 하는 경우, Baratron®을 이용한 측정 및 계측은 귀하의 요구 사항을 항상 만족 시켜드립니다.

가스 전달 시스템을 위한 MKS의 ultraclean용압력 트랜스듀서에는 MKS Baratron® 캐패시턴스다이아프램 기술을 적용하여, 더욱 광범위한 영역에서 여타 strain 게이지류와는 차별화된, 안정적이고 정 확 한 측 정 을 가 능 하 게 합 니 다 .

MKS는 또한, 여러 가지 다양한 아날로그및 디지털 기술의 압력 측정 및 제어 장치를 제공하고 있습니다. 단순한 아날로그방식의 수동 튜닝 제품에서 디지털 신호처리시스템에 이르는 제어용 제품들은, 공정의 upstream과 downstream의 압력을 효과적으로 제어해 줍니다. 이러한 제어루프에서 사용되는 밸브들은 다양한 크기 와 형 태 로 공 급 되 고 있 습 니 다 .

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미국 메샤츄세츠 주 메쑨에서는 유량 측정 및 제어용 제품을 생산하고 있으며, 일반 가스용 MFM/MFC인 Mass-Flo®와ALTA™; 가스, 증기 및 액체의 정밀한 전달을 위한 제품; 생산성 향상과 성능 증대, 복잡성 감소 및 원가 절감을 위한특수 분야 적용 솔루션 등을 공급하고 있습니다.

MKS의 MFM과 MFC는 1 sccm에서 200 slm에 이르는 유량 범위에서의 전기적 측정 및제어를 위한, 최고의 표준으로 자리하고 있습니다. 열 방식과 압력 방식의 유량 조절에서특허 받은 MKS의 센싱 기술력은 우수한 정확성, 재연성 및 신뢰성을 확보하고 있습니다. MFM과 MFC는 각기, All-metal 제품과, True-digital(DeviceNet™, Profibus, RS485) 제품, 그리고 압력에 민감하지 않은 제품 등, 폭 넓은 선택의 폭을 가지고 있습니다.

가스, 증기 및 액체 전달용 제품

MKS의 가스, 증기 및 액체 전달용 제품은 열전도도, 차압 측정 및 직접 액체 분사방식 등의기술이 기본이 됩니다. 이러한 제품들은 유입량의 정밀한 제어가 필요한 공정, 부식성 있고독성있는 가스의 효과적인 제어, 낮은 증기압 가스들과 수증기의 제어 등에 적용됩니다

MKS의 유량 전달용 서브시스템은 일반적인 열 방식의 유량제어기술로는 적용할 수없는 용해된 고체, 공정용으로 개발되고 있는 액체 상태의 신물질 등에 사용 됩니다. 반도체의 신공정과 새로 개발되는 박막 기술 등은 이러한 서브시스템의 도움으로 개발되고 있습니다. 새로운 물질을 적용하는 신물질 공정을 시작하려 하신다면, 저희에게 연락하시어, 고객 맞춤형 유량 전달용 서브시스템을 공급 받으십시오.

유량 전달용 서브시스템

유량 측정 및 제어용 제품

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PICO® 누출 탐지기

MKS의 PICO® 누출 탐지기는 세계에서 가장 작고 가벼운 헬륨을 이용한 휴대용 누출탐지기입니다. 무게가 8kg이하이며, sniffing 버전과 vacuum 버전으로 나뉘는 PICO시리즈는 휴대용 누출탐지기의 새로운 표준으로 자리잡고 있습니다.

CalStand® 검∙교정 시스템

CalStand® 검∙교정 시스템은, 많은 ISO 9000 인증 업체에서 국제인증 표준을 지속적으로 관리하기 위하여 사용 되고 있습니다. 휴대용 압력 검교정 시스템에서 휴대용 유량 검교정 시스템에 이르기까지, 사용자의 공장이나 자체 검교정 센터에서 자유롭게 움직이며 사용하기 용이한 제품들로 구성되어 있습니다. MKS는 또한, 세계30개국 50여개 지사에 수준 높은 서비스 센터를 운영하여, 진공 계측기, 압력계측기와 유량기의 정확한 검교정을 받으실 수 있도록 서비스를 제공하고 있습니다.

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MKS에서는 정교한 측정기술을 기반으로 여러 산업 분야에 사용되는 진보된 제조 공정의모니터링과 제어용 제품을 생산하고 있습니다.

Spectra™(Spectra International)에서는 설비의 분석과 실시간 모니터링이 가능한 잔류기체 분석기(Residual Gas Analyzers, RGAs)를 생산합니다.

가스 분석기(Gas Analysis : RGA & FTIR)

모든 Spectra 관련 제품은 영국의 Crewe에서 제조되며 여러 주요 부품을 조합하여 하나의완전한 시스템 형태로 판매하고 있습니다. 또한 MKS에서는 FTIR(Fourier Transform Infrared Spectrometry)을 기반으로 하여 공정가스의 공급과 배기가스에 대해 지속적인모니터링을 할 수 있는 On-Line™ 이라는 가스 분석 제품을 개발하여 생산하고 있습니다.

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제어-정보기술용 제품

미국 캘리포니아 주, Santa Clara 지사에 있는 제어-정보기술 그룹에서는 기술 집적화된 공정 부품과 기술 및 데이터를 이용하여, 더욱 완벽하게공정 중인 챔버의 상태를 확인, 분석 및 정밀한 제어를 할 수 있게 하는 제품을 생산하고 있습니다. 또한, 디지털 공정 제어 네트워크를 통해 공정중인 챔버 환경에서의 자료를 수집할 수 있는 서브시스템을 생산하고 있습니다. 여기에 하드웨어와 소프트웨어의 정교하고 유기적인 연결을 통해, 공장 네트워크 상에서 실시간 공정 데이터 전송이 가능하게 도와드립니다.

제어-정보기술 그룹은 DIP Inc(디지털 제어 네트워크), TeNTA Technology Ltd.(모듈, 반도체 제조 설비를 제어하는컴퓨터 기반의 공정 제어 시스템), IPC Fab Automation GmbH(e-진단과 진보된 제조 공정용 APC가 가능한 웹 기반의 하드웨어와 소프트웨어)의 세 개의 그룹으로 구성되어 있습니다.

자사의 디지털 네트워크 제품은 반도체, 상용차, 오일과 가스, 화공 산업 등에서 사용되며 CAN 기술을 기반으로 하드웨어와 소프트웨어 솔루션으로 폭 넓은 영역을 구성하고 있습니다. 이런 제품들은 디지털 공정 센서와 서브 제어 시스템, 호스트 컴퓨터와의 통신이 용이합니다. 컴퓨터 기반의 공정 제어 시스템인 이 모듈은 작은 사이즈에 어느 것과도 연결이 가능한 구성과 실시간이 가능한 것이 특징이고 웹 연결과 e-진단 기능이 있는설비를 만들 수 있도록 Jaba™기반을 제어 플랫폼에 적용하였습니다. 웹 기반의 하드웨어와 소프트웨어 솔루션을 하나 이상의 인터페이스를 통해 공정 장비에서 공장 네트워크에 이르기까지의 적용되는 툴 계획(tool schedule)뿐만 아니라 툴 동작(tool processing)에 사용되는 여러 변수에 이르기까지 현장에서나 원거리에서 사용자가 상태를 확인할 수 있습니다. 통합 지능형 소프트웨어가 탑재된 MKS 하드웨어는 사용자가 여러툴로의 빠른 접근이 가능하며, 통신 방해를 줄일 수 있도록 설계되어 있습니다

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▪ 진공 제품 그룹

미국 콜로라도 주, 볼더에 있는 HPS®제품 그룹은, 모든 종류의 진공 부품, 밸브 및 게이지들을 생산하고 있습니다. 공정용 장비에서 스크러버에이르기까지 MKS의 진공 부품들은 장비의 오염, 장비의 유휴, 공간 제약 및 outgassing 등의 솔루션으로 적용되고 있습니다. HPS의 부품들은중∙고 진공용 장비에서 적용되며, leak와 청결상태가 대단히 중요한, 공정용 챔버의 downstream에 주로 적용되어 우수한 공정 결과가 나오도록도와줍니다. 진공용 히터와 트랩 시리즈는 공정용 챔버 부근에 쌓여 있다가 pumping line을 오염시키는 응축 가능한 가스들이 생성되는 것을방지하여 줍니다. 진공 라인에서의 정밀한 온도 제어로, 응축 가능한 물질들은 직접적으로 트랩으로 걸러지게 설계되어 downstream pumping 시스템을 보호하게 됩니다.

HPS®제품 그룹

HPS ® 통합 부품 서브시스템™

공정 장비의 효과적인 유지 관리 및 생산성 최적화를 위해, MKS는 그 요구에 부응하는 각각의 부품과 계측기를 모듈화하여, 각각의 특정 공정 기능수행을 위한 제품을 제공하고 있습니다. HPS 통합 부품 서브시스템™ 은 여러 가지 각기 다른 적용분야에 맞춤형으로 적용 가능하며, 유량계, 압력제어 장치 등의 결합을 통하여 완벽한 foreline용 진공 서브시스템을 구성, 수율 증가와 장비 사용시간의 증가 및 생산성을 향상시켜 줍니다.

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HPS ® 진공 게이지

HPS ® 진공 게이지는 진공게이지들을 통한 간접압력 측정이 필요한 곳에서잘 알려진 제품들입니다. 이러한 소형 게이지와 트랜스듀서들은 피라니, 컨벡션 피라니, 피에조, 핫 캐소드, 콜드 케소드와 MEMS 기반의 멀티센서기술의 제품 등으로 구성되어 있습니다.

HPS ® 부품 그룹에서는, Clamp와 Fitting류, buttweld 등을 포함하는, 생명공학과 의학산업분야 등을 위한 부품들도 설계하여 생산하고 있습니다. 이러한 부품들은 고청결도 및 무균 상태가 요구되는 고순도 유틸리티 분야에서 사용되고 있습니다.

HPS ® 부품 그룹

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▪ Power & Reactive Gas 제품 그룹

미국 메사츄세츠 주, 윌밍턴에 소재하고 있는 Power & Reactive Gas 제품 그룹은 플라즈마, 파워와 반응용 가스 생성 등에서혁신적인 솔루션을 제공하고 있습니다. 2001년에 MKS는 플라즈마, 파워 및 반응용 가스 생성 분야에 세계 최고 기술력을 가진ASTeX® (Applied Science & Technology)를 인수 합병하였습니다.

Power & Reactive Gas 제품 그룹 - ASTeX

ASTeX®에서는 Esh/Etch 공정용 Remote Plasma Source인 Microwave, 진보된 클리닝 공정용인 ASTRON® Remote Plasma Source 및 CVD 공정용 오존 발생장치인 Semozon®, Liquozon® 등의 포트폴리오로 각각의 제품은 고객의 요구사항에 맞게개별적인 부품 형태로 시스템에 통합되거나 서브시스템 형태로 공급이 가능합니다.

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Power & Reactive Gas 제품 그룹 - ENI2002년, MKS는 Emerson Electric의 자회사였던 ENI 부분을 인수합병 하였습니다. ENI는 반도체뿐만 아니라 박막을 이용하는 모든 공정에서RF(Solid-state radio frequency)와 DC(Direct Current)를 사용한 Plasma 파워 공급장치 및 Matching Network 기술 분야의 업계 1위권의회사입니다.

ENI는 미국 뉴욕 주, 로체스터에 위치하고 있으며, 현재 MKS의 Power & Reactive Gas Products 그룹에 속해 있으며, 반도체 및 박막을 사용하는 모든 산업용 RF 파워공급장치, IC 제조와 저장매체 또는 LCD와 PDP 등의 코팅 공정을 위한 DC 파워 공급장치를 생산하고 있습니다. 또한 ENI는 Impedance Matching Network와 플라즈마 분석을 위한 제품도 생산하고 있습니다.

Power & Reactive Gas 제품 그룹 - Medical Electronic

미국 콜로라도 주, 콜로라도 스프링스의 Medical Electronic 제품 그룹에서는, 공장에서 의료 시장용 제품인 MRI(Magnetic Resonance Imaging)용 RF Amplifier를 생산하고 있습니다.

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▪ 진공용 서브시스템 설계 및 제조

영국의 텔포드 에 위치한 MKS Telvac Engineering에서는 박막제조 산업이나 반도체 산업에 관련된 OEM에서 요구하는부분의 아웃소싱을 담당하고 있습니다. Telvac은 유럽 쪽에서 시행되고 있는, 광학소자를 이용한 데이터 전송, 진보된 생명공학 기술 등에서 요구되는 진공 관련 기술들을 제공함으로써 착실한 성장을 거듭하고 있습니다.

끝까지 읽어 주셔서 감사합니다.