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「低散乱 Haze)EPD-1350/1600 高品質膜を実現する独自IAD方式 “EPD technology”...
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最新型 イオンアシスト蒸着装置 EPD-1350/1600 これまでの概念に全くとらわれない 94層IR-cutサンプル断面SEM像 Ra=1.32nm ランニングコストを「削減」 「低散乱(低Haze)」な 革新的装置 高機能膜に最適な Haze値:0.05 」 「 「超多層膜」を実現 タクトタイムを「短縮」 TiO2/SiO2 94層11μmの多層膜において、 ラフネスを抑え 「低Hazeを実現」
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最新型 イオンアシスト蒸着装置 EPD-1350/1600
これまでの概念に全くとらわれない
94層IR-cutサンプル断面SEM像
Ra=1.32nm
ランニングコストを「削減」
「低散乱(低Haze)」な 革新的装置 高機能膜に最適な
Haze値:0.05
」 「
「超多層膜」を実現
タクトタイムを「短縮」
TiO2/SiO2 94層11μmの多層膜において、 ラフネスを抑え 「低Hazeを実現」
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EPD-1350/1600
高品質膜を実現する独自IAD方式 “EPD technology” 従来のIADではできなかった、 散乱のない TiO2 /SiO2 での10um多層膜 低散乱と低応力の両立 ターボ分子ポンプ(TMP) 蒸着装置 Oilフリーによる真空品質向上 膜へのカーボンの混入抑制 省エネ 同サイズDP装置と比べ消費電力 約1/2 メンテナンス扉 複数扉によるメンテ性向上 メンテナンスによるCRの汚染防止 生産性の向上 当社従来IAD1350装置と比べ EPD-1350:24%Up EPD-1600:61%Up
式 社シンクロン 220-8680 なと 4-3-5
TEL:045-650-2411 http://.shincron.co.jp
製品紹介スライド番号 1
EPD-1350、1600スライド番号 1スライド番号 2
RAS-1600スライド番号 1スライド番号 2