Grupos Grupos ProtectoresProtectores

Randolph Alonso Randolph Alonso

FormationFormation

1. Me1. Me22SOSO44, NaOH, Bu, NaOH, Bu44NN++II--, Organic Solvent 60-90%, Organic Solvent 60-90%

2. MeI or Me2. MeI or Me22SOSO44, NaH or KH, THF, NaH or KH, THF

3. CH3. CH22NN22, Silica gel, 0-10 , Silica gel, 0-10 ooC, 100% yieldC, 100% yield

Methyl Ether ROMe

O O

H

OH

OH

SS

CH2N2, Et2O

Silica gel 83% O O

H

O

O

SS

4. 4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20MeI, Solid KOH, DMSO, 20oo, 5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata, , 5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata, Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985)Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985)

5. Debido al incremento de la acidez y un reducido 5. Debido al incremento de la acidez y un reducido requerimiento estérico del carbohydrato hydroxilo, requerimiento estérico del carbohydrato hydroxilo, tt-BuOK -BuOK puede usarse como una basepuede usarse como una base

Methyl Ether ROMe

O

O

O

OH

O

O

t-BuOK, MeI

THF, 100%O

O

O

O

O

O

6. Me6. Me22SOSO44, DMSO, DMF, Ba(OH), DMSO, DMF, Ba(OH)22, BaO, rt. 18h, 98%, BaO, rt. 18h, 98%

Remoción

1. MeSiI, CHCl1. MeSiI, CHCl33, 25, 25ooC, 6h, 95%C, 6h, 95%

2. BBr2. BBr33, NaI, 15 crown-5 , NaI, 15 crown-5

Methyl Ester no son removidosMethyl Ester no son removidos

Methyl Ether ROMe

O

HO

CO2CH3

O

O

CO2CH3

H3C

3. BBr3. BBr33. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH22ClCl22, ,

4. BF4. BF33ETET22O, HSCHO, HSCH22-CH-CH22-SH, HCl, 15 h, 82%-SH, HCl, 15 h, 82%

5. 5.

OAc

OAc

H3CO

CO2CH3CO2CH3

BBr3, CH2Cl2

12oC

OAc

OAcCO2CH3

O

O H

-28

Methyl Ether ROMe

O

O

OH

OH

BzO

O-CH3

AlCl3/Bu4N+I-

CH3CN, 83%

O

O

OH

OH

BzO

OH

Metoximetil EterMetoximetil Eter CH CH33OCHOCH22-OR-OR

1. CH1. CH33OCHOCH22-Cl, NaH, THF, 80%-Cl, NaH, THF, 80%

Mono MOMO Derivados de DiolesMono MOMO Derivados de Dioles

H3C-S-H2CO

CO2CH2CH2-TMS

O

HO DME, reflux, 12h, 88%

H3C-S-H2CO

CO2CH2CH2-TMS

O

MOM-O

Methyl Ether

OH

OH

(MeO)3CH

CH2Cl2, r.t. 24h

O

O O

DIBAH, -78o

10 min

OMOM

OH

Remoción

1. Cat.HCl[], MeOH, 621. Cat.HCl[], MeOH, 62ooC, 15 min.C, 15 min.

2. 62. 6M M HCl, THF, 50HCl, THF, 50ooC, 95%C, 95%

Methyl Ether

H

OMOM

Dowex, 50w

MeOH, 93%

H

OH

Tetrahydropirano Ether (THP-OR)Tetrahydropirano Ether (THP-OR) Dihydropirano, TsOH, CHDihydropirano, TsOH, CH22ClCl22. 2. 2ooCC

Remoción Explosión ocurre cuando se destilaExplosión ocurre cuando se destila

OOR

Methyl Ether

OHOTHP B2H6

H2O2- OH

OTHPO

t-t-butil Éterbutil ÉterPuede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos. Puede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos. El éter es estable, excepto frente a los ácidos.El éter es estable, excepto frente a los ácidos.

Isobutilene, BFIsobutilene, BF33ETET22O, HO, H33POPO44, 100%, 100%

Remoción

NN22, CF, CF33COOH, 0-20COOH, 0-20oo, 1-16 h, 80-90%, 1-16 h, 80-90%

Methyl Ether

OH

O

O-t-Bu

O

Benzyl Ether (Br-OR) PhCHBenzyl Ether (Br-OR) PhCH22-O-R-O-R1. BnCl, KOH, 1401. BnCl, KOH, 140ooC, 86%C, 86%

2. BnCl, Bu2. BnCl, Bu44NN++HSOHSO44--, 50% KOH, Benzene., 50% KOH, Benzene.

3. NaH, THF, BnBr, Bu3. NaH, THF, BnBr, Bu44NN++II-- 20 20oo, 3h, 100%, 3h, 100%

Benzyl Ether

OO

HO O

O

BnO

BnBr, DMF

AgO2, 48 h, rt

76%

Remoción

1. H1. H22/Pd-C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, 1964./Pd-C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, 1964.

2. Raney Nickel W4, EtOH, H2. Raney Nickel W4, EtOH, H22

3. NaNH3. NaNH33, 15 seg., 97%, 15 seg., 97%

Benzyl Ether

HO

H

CO2CH3

OBn

HO

H

CO2CH3

OH

Benzyl Ether

Phenyl benzyl Ether p-C6H5-C6H4-CH2-OR / NaHRemoción Pd/C H2 / EtOAc 52% Ref. Am Chem. Soc, 113, 6320, 1991.

O

O

OH

OH

O

CO2H

OO

O No Clivabenzil eter

O

O

OH

OH

OH

CO2H

OHO

HO

Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Formación MeFormación Me33SiCl, EtSiCl, Et33N, THF, 25N, THF, 25oo, 8h, 90%, 8h, 90%

Remoción : :

1. Bu1. Bu44NN++FF--, THF, Conditions Apróticas., THF, Conditions Apróticas.

2. K2. K22COCO33, MeOH Anhydrous, 0, MeOH Anhydrous, 0ooC 100C 100ooCC

Éter de Silano

HOOH

0,5 Eq, HMDS, THF

1 gota TMS-Cl, RefluxHO

OTMS

Trietilsilano (TES-OR) EtTrietilsilano (TES-OR) Et33SiORSiOREtEt33SiCl, PyrSiCl, Pyr

Remoción 2% HF o HF/Pyr. 2% HF o HF/Pyr.

tt-Butil Dimethylsilylether -Butil Dimethylsilylether TBDMS-OR (TBDMS-OR (tt--BuMeBuMe22-SiOR)-SiOR)

TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25ooC, 10h, C, 10h, %%

Éter de Silano

Éter de Silano

OH

R

NH2

COOH TBDMS-Cl, DBU

CH3CN, 0o, 24 h, rt.

OTBDMS

R

NH2

COOH

SO2Ph

OH

HO

TBDMS-CL/ Im

DMF, 79%

SO2Ph

OH

TBDMSO

RemociónBuBu44NN++FF--, THF, 25, THF, 25ooC, 1h > 90% yieldC, 1h > 90% yield

El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en condiciones anhidras. condiciones anhidras.

Ésta puede ser controlada con la adición de ácido Ésta puede ser controlada con la adición de ácido acético.acético.

Comercial 1 TBAF, contiene HComercial 1 TBAF, contiene H22O, O, rendimiento rendimiento Molecular Sieve 2.3%Molecular Sieve 2.3%

2 KF, 18-Crow-62 KF, 18-Crow-6

Éter de Silano

Remoción selectivo de R-OH Primarios en presencia de selectivo de R-OH Primarios en presencia de Secundarios.Secundarios.

o Ácido Trifluoroacético, Ho Ácido Trifluoroacético, H22O, CHO, CH22ClCl22, (9:1), rt, 96h, (9:1), rt, 96h

Éter de Silano

O

BOC-HN

TBDMSO OTBDMS

O

AcOH, H2O

THF, 15 h, O

BOC-HN

TBDMSO OH

O

O

OTBDMSO

OTBDMS

O

OHO

OTBDMS

BB

R = TBDMS o TBDPSR = TBDMS o TBDPS

O

OTBDMSRO

OH

B

K2CO3, MeOH

48 h, rt

O

OTBDMSHO

OH

B

Éter de Silano

El TBDPS-OR (El TBDPS-OR (tt-BuPh-BuPh22-Si-O-R)-Si-O-R)100 > más estable TBDMS100 > más estable TBDMS

El TBDPS < estable frente a una base que TBDMSEl TBDPS < estable frente a una base que TBDMS

KK22COCO33/MeOH/MeOH

99MM MH MH44OH 60OH 60ooCC

Estable Estable

80% ACOH que cliva a TBDMS80% ACOH que cliva a TBDMS

HBr/AcOHHBr/AcOH

Éter de Silano

FormaciónFormaciónTBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rtTBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rt

Remueve con BuRemueve con Bu44NN++FF--, THF, 25, THF, 25ooC, 1-5h, 90%C, 1-5h, 90%

Py, HF, THFPy, HF, THF

LiAlHLiAlH44 en algunos casos puede remover en algunos casos puede remover

Éter de Silano

CO2CH3

CONH2

TBDPSO

LiAlH4

CH2OH

CH2NH2

HO

Tricloro acetatoTricloro acetatoFormación ClFormación Cl33C-COCl, Py, DMF, 20C-COCl, Py, DMF, 20ooC, 2 días, 87%C, 2 días, 87%

Remoción, NH, NH33, EtOH, CGCl, EtOH, CGCl33, 6h, 81%, 6h, 81%Es selectivo en presencia de acetatoEs selectivo en presencia de acetato

Acetato

O

HO

HO

TMSOOH

S

O

HO

HO

TMSO

O

S

OCl3

ÉÉster Benzoate (Bz-OR) PhCOster Benzoate (Bz-OR) PhCO22-R-REl El ÉÉster de Benzoato es uno de los más comunes ster de Benzoato es uno de los más comunes

éésteres usados para protección de alcoholes, steres usados para protección de alcoholes,

> estables que acetatos> estables que acetatos

Formación BzCl o BzFormación BzCl o Bz22O, Py, 0O, Py, 0ooC Benzoilchloride / C Benzoilchloride / CHCH22ClCl22

Éster de Benzoato

OH

OH

O

O

O

OBz

OBz

O

O

O

Remoción selectiva selectiva

O

BzO

OBzBzO

BH2NNH2, ACOH, Py

20 C, 7 dias, 80%

O

BzO

OHBzO

B

T.L. 35, 9717, 1994

Éster de Benzoato

Metilen AcetalMetilen Acetal1. 40% CH1. 40% CH22O, conc. HCl, 50O, conc. HCl, 50ooC, 4 díasC, 4 días

2. Paraformaldehido, H2. Paraformaldehido, H22SOSO44, AcOH, 90, AcOH, 90ooC, 1 h.C, 1 h.

3. (MeO)3. (MeO)22CHCH22, lutidine, lutidine

4. CH4. CH22BrBr22, KOH, DMSO, rt, 49%, KOH, DMSO, rt, 49%

Protección con cíclico acetales y cetales

CO2CH3

OBn OBn

OH OH

CO2CH3

OBn OBn

O O

Remoción 1. BCl1. BCl33, CH, CH22Cl, -80Cl, -80ooC, 30 min.C, 30 min.

2. HF, EtOH, THF, 0-52. HF, EtOH, THF, 0-5ooC, 14hC, 14h

Protección con cíclico acetales y cetales

O

HO

O

O

O

O

O

HO OH

O OH

Ethylidiene AcetalEthylidiene AcetalCHCH33CHO, CHCHO, CH33CH(OMe)CH(OMe)22 o Paraldehyde, [ ] H o Paraldehyde, [ ] H22SOSO44/ /

TsOH, HTsOH, H22O, THF, 72%.O, THF, 72%.

Protección con cíclicos acetales y cetales

HO

HO

OH

O

O

OOH

O

Acetonida (Isopropylidena Cetal)Acetonida (Isopropylidena Cetal)

Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.

Protección con cíclicos acetales y cetales

OH

OH

OH

Acetona, TsOH

rt, 100%

3 pentanone, THF, TsOH90%

OH

O

O

+

O

OH

O

(9:1)

OH

O

O

IsomerizaciónIsomerización

Remoción1. 1N HCl, TFH1. 1N HCl, TFH

2. 2N HCl, 802. 2N HCl, 80oo, 6h, 6h

3.BCl3.BCl33, Et, Et22OOCFCF33COCO22, THF, H, THF, H22O, 83%O, 83%

OH

O

O

O

HO

O

TsOH

1:10

Protección con cíclicos acetales y cetales

Ethoxietilene HC(OMe)Ethoxietilene HC(OMe)33 o HC(OEt) o HC(OEt)33, Ácido catal, Ácido catalííticotico..

Remoción 98% Ácido Fórmico, HCl 98% Ácido Fórmico, HCl

Protección con cíclico acetales y cetales

OO

HO OH

HO70%

OO

O O

HO

O

O

O

O(t-Bu)2AlH

OMOM

OH

Metil ÉterMetil Éter

FormaciónFormación

1. MeI, K1. MeI, K22COCO33, Cetona , Reflux, 6h, Cetona , Reflux, 6h

2. Me2. Me22SOSO44, NaOH, EtOH, reflux, 3h, NaOH, EtOH, reflux, 3h

3. LiCO3. LiCO33, MeI, DMF, 55, MeI, DMF, 55ooC, 18h, 54-90%C, 18h, 54-90%

Protección de Fenoles

OCH3

H3CO

O

Me2SO4, NaOH

OH

HO

O

MeI, KCO3

catona, reflux, 6h

OH

O

O

O

HO

HO

O

HO

O

Diazometano, Éter, 80%Diazometano, Éter, 80%

OH O

O

BnO OH

CH2N2, eter

80%

OH O

O

BnO O

Methyl Ether Ph-OMe

Remoción

1. Me1. Me33SiI, CHClSiI, CHCl33, 25, 25ooC, 72%C, 72%

2. K2. K++, Tolueno, 18crow-6, 100%, Tolueno, 18crow-6, 100%

3. Sodio Benzylselenide PhCH3. Sodio Benzylselenide PhCH22SeNa o SeNa o

sodio Tiocresolato pCHsodio Tiocresolato pCH33-Ph C-Ph C66HH44SNa en DMFSNa en DMF

RefluxReflux

N

O

ON

O

HO

Methyl Ether Ph-OMe

Methyl Ether Ph-OMe

NO2

O

O

RQuinolina

NO2

OH

O

R

LiI

Remoción

O

OH

t-BuOK

Microondas

O

O

KF, Al2O3

5h, 210 oC

OH

O

J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995

Methyl Ether Ph-OMe

O

O

O

AlCl3, 75&

Oo C, 3h.

OH

O

O

Benzil Éter PhCH2-O-R

OH

OH

CO2CH3

OBn

OH

CO2CH3

K2CO3, BnBr

cetona, 71%

Remoción, H2 / Pd/ C / Ac2O

Aril toluen sulfonato

ArOSO2C6H4-p-CH3

TsCl, K2CO3,cetona

CH3I,K2CO3

OH

OH

O OTs

OH

O

NH2

OH

NH2

OTs

TsCl, CH2Cl2

NHTs

OH

Py

Et3N

Remoción KOH, H2O, EtOH

Protección de Catecoles

Acetato de MetilenoFormación CH2Br, NaOH,76%

BrCH2Cl, DMF, CsCO3, 86%Remoción AlBr3, CH3SCH3,

BCl3,CH3SCH3,83%, 98%

O

O

OH

OH

OHNaOH

Fosgeno

OH

O

O

O

Carbonato Cíclico

Acetales o Cetales R2(OCH3)2

MeOH, HCl seco, 2 min.

O

O O

H

O

O O

HO

MeOH, MH4Cl, reflux, 1.5 h, 66%

O

O

H

O

O

H O

1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

H

O

O

H

O

O

OH

OH

TsOH, 91%

O

O

O

OH

OH

H+

O

O O

1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua, calor, 100%5% HCl, THF, 25o, 20 h.

O

OAc

OAc

CO2CH3

O

O

O

OAc

OAc

CO2CH3

O

N-t-Butoxicarbonilamida (BOC-NRCO-)

t-C4H9OCO-NRCO-Formación (BOC)2O, Et3N, DMAP, 25o C, 15h, 78-96 %

BuLi, (BOC)2O

Remoción MeONa, LiOH, NH2NH2, TMSOTf, CH2Cl2

N

H

BOC

O

OH

HO

O

O

TMSOTfCH2Cl2/ PhSH

0oC , 1h

NH

H

O

OH

HO

O

O