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KONFOKALES RAMAN-MIKROSKOP Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS Maria-Reiche-Str. 2 01109 Dresden Germany Ansprechpartner: Aron Guttowski Telefon +49 351 8823-229 [email protected] Dr. Peter Reinig Telefon +49 351 8823-103 [email protected] www.ipms.fraunhofer.de Messdienstleistungen am IPMS • Charakterisierung von kristallographischen Eigenschaften - Gitterstrukturen - Kristallinität - Grenzflächen • Mechanische Spannungsanalysen (Stress) • Kompositions- und Kontaminations- bestimmung Anwendungsgebiete • Zerstörungsfreie lokale optische Analysen von: - MOEMS-Chips - Wafern - Bauelementen - weiteren Proben • Mikroskopische, spektrale Material- charakterisierung im Bereich von 100 cm -1 bis 4200 cm -1 Raman-Mikroskop mit drei Laserquellen Ramanmapping mit 100 nm Positioniergenauigkeit Raman Bildgebung (Polystyrol) Ramanspektren von Kunststoffen und Halbleitermaterialien FRAUNHOFER-INSTITUT FÜR PHOTONISCHE MIKROSYSTEME IPMS Z / μm 1,582 -0,223 1,00 -1,00 -2,028 0,679 -1,125

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KONFOKALES RAMAN-MIKROSKOP

Fraunhofer-Institut für

Photonische Mikrosysteme IPMS

Maria-Reiche-Str. 2

01109 Dresden

Germany

Ansprechpartner:

Aron Guttowski

Telefon +49 351 8823-229

[email protected]

Dr. Peter Reinig

Telefon +49 351 8823-103

[email protected]

www.ipms.fraunhofer.de

Messdienstleistungen am IPMS

• Charakterisierung von

kristallographischen Eigenschaften

- Gitterstrukturen

- Kristallinität

- Grenzfl ächen

• Mechanische Spannungsanalysen (Stress)

• Kompositions- und Kontaminations-

bestimmung

Anwendungsgebiete

• Zerstörungsfreie lokale optische

Analysen von:

- MOEMS-Chips

- Wafern

- Bauelementen

- weiteren Proben

• Mikroskopische, spektrale Material-

charakterisierung im Bereich von

100 cm-1 bis 4200 cm-1

Raman-Mikroskop mit drei Laserquellen

Ramanmapping mit 100 nm Positioniergenauigkeit

Raman Bildgebung (Polystyrol)

Ramanspektren von Kunststoffen und Halbleitermaterialien

F R A U N H O F E R - I N S T I T U T F Ü R P H O T O N I S C H E M I K R O S Y S T E M E I P M S

Z / µm

1,582

-0,2231,00

-1,00

-2,028

0,679

-1,125

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Spezifi kationen

Spektrometer spektrale Aufl ösung (FWHM) < 1,0 cm-1 / < 0,33 cm-1/Pixel

spektrale Wiederholbarkeit < +/- 0,01 cm-1 (1σ)

spektrale Stabilität (innerhalb 7 Stunden) < +/- 0,05 cm-1 (1σ)

Cut-off Wellenzahl (niedrig) < 100 cm-1

Cut-off Wellenzahl (niedrig) - optional < 50 cm-1

Cut-off Wellenzahl (hoch) < 4200 cm-1

Laser-Kit 405 nm, 532 nm, 785 nm > 45 mW (cw)

Mikroskop Leica DM2700NPLAN-Objektive: 5x/NA0,12; 20x/NA0,4; 50x/NA0,5; 100x/NA 0,85

ProbenhalterX/Y/Z motorisiertHochgeschwindigkeitskodierung

200 mm x 200 mm Probengröße100 nm Positioniergenauigkeit

Erhitzung/Kühlung aktive Proben-Erhitzung/Kühlung -196°C - 1400°C

Temperaturabhängige Messungen von -196°C bis zu 1400°C

Materialanalyse von organischen Molekülen vor und nach Alterung am Beispiel Pentacen

degradiertes Probenmaterial

neues Probenmaterial

Analyse eines 200 mm Si-Wafers mit100 nm Positioniergenauigkeit

Cou

nts

Raman shift / cm-1