セミクリーンM-LOセミクリーンM-LO (メタルフリータイプ中性系洗浄剤)...

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セミクリーンM-LO (メタルフリータイプ中性系洗浄剤) ・従来の有機溶剤と比べて高い洗浄力を持つ中性洗浄剤です。 ・残存した場合に問題となる金属イオンを組成や成分中に含んでいないので、 再汚染の心配がなく安心してご使用できます。 ・低泡性タイプなので泡の出やすい枚葉式ブラシ洗浄機でもご使用できます。 ・TFT 用ガラス基板、カラーフィルター等成膜基板の洗浄、 ・フォトマスク基板、石英基板、水晶、ハードディスクの洗浄 ・アルミ等金属腐食抑制の洗浄 使用方法 ・方法:超音波洗浄、浸漬洗浄、枚葉式ブラシ洗浄、ジェット水流洗浄 ・濃度:1~10%希釈使用 ・温度:常温~40℃ ・洗浄後、清浄度に応じて2~5段階の水リンスを行って下さい。 ・外 ・p H(原液、25℃) ・比 重(原液、25℃) ・COD Mn (0.1%) ・BOD(0.1%) 無色透明液体 6.0 1.01 200 mg/L 180 mg/L

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Page 1: セミクリーンM-LOセミクリーンM-LO (メタルフリータイプ中性系洗浄剤) 特 長 ・従来の有機溶剤と比べて高い洗浄力を持つ中性洗浄剤です。・残存した場合に問題となる金属イオンを組成や成分中に含んでいないので、

セミクリーンM-LO(メタルフリータイプ中性系洗浄剤)

特 長

・従来の有機溶剤と比べて高い洗浄力を持つ中性洗浄剤です。

・残存した場合に問題となる金属イオンを組成や成分中に含んでいないので、

再汚染の心配がなく安心してご使用できます。

・低泡性タイプなので泡の出やすい枚葉式ブラシ洗浄機でもご使用できます。

用 途

・TFT 用ガラス基板、カラーフィルター等成膜基板の洗浄、

・フォトマスク基板、石英基板、水晶、ハードディスクの洗浄

・アルミ等金属腐食抑制の洗浄

使用方法

・方法:超音波洗浄、浸漬洗浄、枚葉式ブラシ洗浄、ジェット水流洗浄

・濃度:1~10%希釈使用

・温度:常温~40℃

・洗浄後、清浄度に応じて2~5段階の水リンスを行って下さい。

性 状

・外 観

・p H(原液、25℃)

・比 重(原液、25℃)

・CODMn(0.1%)

・BOD(0.1%)

無色透明液体

6.0

1.01

200 mg/L

180 mg/L