高強度レーザーと原子 の相互作用 -...
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ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
本日の講義の内容
フェムト秒レーザーパルスの中での原子のイオン化
高次高調波発生→高強度超短パルス軟エックス線
アト秒軟エックス線パルスの応用例
光電界の直接観測
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
フェムト秒・アト秒とは?
ミリ m 10-3
マイクロ μ 10-6
ナノ n 10-9
ピコ p 10-12
フェムト f 10-15
アト a 10-18
30フェムト秒の間に光が進む距離は…3 ! 108(m/s) ! 30 ! 10!15(s) = 9 ! 10!6(m) = 9 µm
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イオン化1光子電離(光電効果)
Ip
基底状態
E = 0
€
hω
€
Eel = hω− I p
光子(光量子)
(1905年 アインシュタイン)
振動数
かたまりとして電子に吸収される。
€
hωの光は、
€
ω のエネルギーの
弱い光の場合
€
I p : イオン化ポテンシャルイオン化の条件
€
hω > I p http://physics.nist.gov/cuu/Constants/index.html
€
h =1.055×10−34 J ⋅s
物理定数の値
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多光子電離
Ip
€
hω
€
hω
€
hω
€
Eel = 3hω− I p
Ip
基底状態
E = 0
€
hω
€
hω < I p強度 小 大
€
I >1012 W/cm2
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超閾電離
Phys. Rev. Lett. 42, 1127 (1979)
超閾電離の発見
超閾電離
€
Eel = (n+ s)hω− I p
€
I >1013 W/cm2
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高強度では低次のピークがなくなる。
€
Up =e2E0
2
4mω2 = 9.33×10−14 I(W/cm2 )λ2 (µm) in eV
ponderomotive energy or potential
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トンネル電離
レーザー電場
イオン化[1] [2]
[3] [4] [1][2] [3]
[4]
1サイクル中で電場の値が大きい瞬間にのみイオン化が起こる。cf. 一光子電離(連続的にイオン化する)
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
トンネル電離
レーザー電場
電子トンネル効果
トンネル効果とは
原子核ポテンシャル
古典力学 量子力学
http://applphys.e-lab.kyutech.ac.jp/~yosifuku/semic3-2.html
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
トンネル効果によるイオン化
トンネル効果とは?
電子は、光子ではなく、電界を感じてる!
古典力学 量子力学
レーザー電場
原子核ポテンシャル電子
トンネル効果
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
高調波発生
線形光学効果(弱い光)
非線形光学効果(強い光)€
ω
€
ω
€
ω
€
ω,3ω,5ω,L
結晶、ガス等
物質の応答が、入射光強度に比例
物質の応答が、入射光強度に非線形に依存
€
3ω
€
5ω
:3次高調波
:5次高調波
波長変換
€
D = ε0E +P
€
P = ε0 χ(1)E + χ (2)E2 + χ (3)E 3 +L[ ]
反転対称な媒質では、
€
χ (2) = 0線形分極
非線形分極
€
∇×∇×E = −µ0∂2D∂t2
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摂動論的高調波発生
基底状態
電離
€
hω
€
hω
€
hω仮想準位
€
3hω
基底状態
電離
€
hω
€
hω
€
hω
仮想準位
€
5hω
€
hω
€
hω
3次高調波 5次高調波
次数が高くなるほど、発生効率は減少。
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高次高調波発生の発見
実験(1987年) シミュレーション
カットオフ
プラトー
€
800 ÷ 41=19.5 nm
新しい極端紫外・軟エックス線光源
プラトー:次数の増加にもかかわらず、発生効率が、あまり減少しない。
• 高次高調波の最も重要な特徴
• 摂動論的には解釈できない
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高次高調波発生のメカニズム
レーザー電場
電子トンネル電離
電場中の古典的運動
再結合→発光
基底状態
電
€
hω
€
hω
€
hω仮想準位
€
3hω
摂動論的高調波 高次高調波(非摂動論的)
レーザー電場 << 原子核のクーロン力 レーザー電場 ~ 原子核のクーロン力レーザーは摂動にすぎない。
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カットオフエネルギー
• カットオフの光子エネルギーは、簡単な式で表される。
Ec = Ip + 3.19Up
Up(eV) =e2E2
0
4m!2= 9.3 ! 10!14I(W/cm2)"2(µm)
ponderomotive energy
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高次高調波発生の3ステップモデルPaul B. Corkum, Phys. Rev. Lett. 71, 1994 (1993)
レーザー電場
電子トンネル電離
電場中の古典的運動
再結合→発光
E(t) = E0 cos !t
!t0 = "0位相 においてイオン化した場合
z =E0
!2[(cos " ! cos "0) + (" ! "0) sin"0]
Ekin = 2Up(sin! ! sin!0)2
再結合 z = 0となる ! = !ret(!0)
350
300
250
200
150
100
50
0
Phas
e of
reco
mbi
natio
n (p
hi_r
)
150100500Phase of electron release (phi0)
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高次高調波発生の3ステップモデル
3.5
3.0
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
Elec
tron
ener
gy (i
n Up
)
150100500Phase of electron release (phi0)
カットオフ則
Ec = Ip + 3.19Up
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
• 基本波‒ チタンサファイアレーザー(波長800nm前後)
• ターゲットガス‒ 希ガス
高次高調波の具体例
元素 Ip (eV)He 24.6
Ne 21.6
Ar 15.8Kr 14.0
Xe 12.1
カットオフEc = Ip + 3.19Up
Up(eV) =e2E2
0
4m!2= 9.3 ! 10!14I(W/cm2)"2(µm)
ナノデザイン特論2(石川顕一)学内向け講義資料
高エネルギーの高調波XUV・軟エックス線パルス• 理化学研究所(緑川克美)
‒ 25 nJ @ λ = 13.5 nm (Ti:S H59)
‒ 0.33 µJ @ λ = 29.6 nm (Ti:S H27)
‒ 1 µJ @ λ = 54 nm (Ti:S H15)
‒ 4.7 µJ @ λ = 62.3 nm (Ti:S H13)
‒ 7 µJ @ λ = 72.7 nm (Ti:S H11)
• フランス原子力庁サクレー研究所 (P. Salieres)
‒ 1.9 µJ @ λ = 53.3 nm (Ti:S H15)
• 東京大学物性研究所(渡部俊太郎)
‒ 1.2 µJ @ λ = 49.7 nm (KrF Excimer H5)
Takahashi et al.
Phys. Rev. A 66, 021802(2002)Opt. Lett. 27, 1920(2002)JOSA B 20, 158 (2003)Appl. Phys. Lett. 84, 4 (2004)
Hergott et al.Phys. Rev. A 66, 021801 (2002)
Yoshitomi et al.Opt, Lett. 27, 2170 (2002)
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4.7 µJ @ λ = 62.3 nm (Ti:Sapphire H13)
0.33 µJ @ λ = 29.6 nm (Ti:Sapphire H27)
1014 W/cm21015 W/cm2
軟エックス線XUV
focused to an area of 10µm2 by a mirrorAssuming the pulse duration < 30 fs
高強度XUV・軟エックス線パルス
Mashiko et al., Opt. Lett. 29, 1927 (2004)
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アト秒パルスはどうやって作る?チタンサファイアレーザーの電場の1周期(光の波長)÷(光の速度)
= (800 nm) ÷ (3 ! 108 m/s) = 2.7 fs
もっと波長の短い光
XUV
軟エックス線
でしか作れない
高次高調波
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高次高調波発生→アト秒X線パルストンネル効果によるイオン化 加速と再結合
紫外線・エックス線(高調波)
530アト秒(2001年)
クラウス
250アト秒(2004年)
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アト秒パルスの発生には
超短パルスレーザー(5フェムト秒程度)が必要レーザーの電界のキャリアエンベロープ位相を制御しなければいけない。
レーザーの電界E(t) = E0(t) cos(!t + ")
エンベロープキャリアエンベロープ位相
! ="
2
! = 0
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光の本性マクスウェル光は電磁波である
磁場
電場
1864年 ! · D = !
!" H = J
!" E +!B!t
= 0
! · B = 0
…しかし、一体誰が光の電界が波打つのを見たことがあるのか?
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アト秒高調波パルスを用いた光電界測定
検出器での運動エネルギー
W ! W0 +!
8W0Up(tr) sin(!tr + ")
!p = !e
! !
tr
E(t)dt = !eA(tr)
電界による運動量変化