3%Pt/C （STD）

S修飾3%Pt/C

触媒

1.0

4.5

反応時間（hr）

97.7

99.9

目的物（%）＊

1.5

0.1

脱Cl体（%）＊

未来を見つめ、夢を化学する無限の可能性

創業以来蓄積してきた水素化反応と触媒調製の技術と経験を活かし、反応に合った触媒の選定、最適な合成フローの提案をいたします。触媒の自社調製・自社回収により、コストメリットのある受託合成を提案いたします。

KAWAKENの新触媒

硫黄修飾3%白金炭素Wet選択還元用触媒硫黄化合物による被毒処理を実施脱ハロゲン化抑制ニトロ基・オレフィン還元に高選択性

脱Cl化抑制オレフィン選択還元

＊ GC Area（%）　原料転化率100%

Cl Cl

　　Cat. 2 wt%H2 0.2 MPa

Solv. MeOHTemp. 30 ℃

Cat. 5 wt%H2 0.2 MPa

Solv. MeOHTemp. 40 ℃

ClO

OCl

O

O

X = Cl, Br R = H, -CH3

NO2

X

R

NH2

X

R

Cat. 　 2 wt%H2 　　 0.1 MPa　

Solv. 　 MeOHTemp. 30 ℃

新規白金触媒

3%Pt/C （STD）

S修飾3%Pt/C

触媒

25

45

反応時間（min）

97.9

99.1

目的物（%）＊

1.2

0.1

脱Cl体（%）＊

基質 目的物 反応時間（hr）

2.0

1.5

1.5

3.0

目的物（%）＊脱X体（%）＊

99.0

99.6

99.6

98.6

0.8

0.4

trace

0.7

NO2

Cl

NH2

Cl

O2N

Cl

H2N

Cl

O2N

Cl

H2N

Cl

NO2

Br

NH2

Br

＊ GC定量値　原料転化率100%

脱ハロゲン化抑制ニトロ基選択還元

反応例

＊ GC定量値　　原料転化率100%

0 20 40 60

反応時間（min）80 100 120

Cat. 　 2 wt%H2 　　 0.1 MPa

Solv. 　 MeOHTemp. 3 ℃

NH2NO2

OH OHCat. 　 0.5 wt%H2 　　 0.1 MPaSolv. 　 MeOHTemp. 25 ℃

N

OBn

N

OH

Cat. 　 5 wt%H2 　　 0.05 MPaSolv. 　 MeOHTemp. 30 ℃

NH2

OBn

NH2

OH

Cat. 　 3 wt%H2 　　 0.1 MPaSolv. 　 MeOHTemp. 30 ℃

NH

OH

O

NHZ NH

OH

O

NH2

Cat. 　 1 wt%H2 　　 0.05 MPa

Solv. 　 H2O:CH3CN (1:1)Temp. 30 ℃

N NHZ N NH2

　　Cat. 　 1 wt%H2 　　 0.05 MPaSolv. 　 MeOHTemp. 30 ℃

5%パラジウム炭素（LA）Wet5%パラジウム炭素（LA）Wet5%パラジウム炭素（EA）Wetの改良品pH6程度の弱酸性触媒ニトロ基低温還元、オレフィン還元、脱Z化反応に高活性

5%パラジウム炭素（LB）Wet5%パラジウム炭素（LB）Wet5%パラジウム炭素（EB）Wetの改良品pH8程度の弱塩基性触媒ニトロ基低温還元、オレフィン還元、脱Bn化反応に高活性

オレフィン還元

ピリジン核-OBn

ベンゼン核-OBn

アミノ酸-NHZ

ピリジン核-NHZ

新規パラジウム触媒

川研ファインケミカル株式会社 ファイン事業部

■ ニトロ基低温還元 ■ オレフィン還元

■ ピリジン核-OBn ■ ベンゼン核-OBn

■ アミノ酸-NHZ ■ ピリジン核-NHZ

EB

Pd(OH)2

PH

EB

EA

LA

LB

LA

LB

LB

0 30 60 90

反応時間（min）120 150 180

EA

PH

EB

0 30 60 90 120

反応時間（min）150 180 210

反応時間1/2

反応時間1/2

ニトロ・オレフィン還元

脱Bn化

脱Z化

反応例

ニトロ基低温還元