Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of...
Transcript of Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of...
![Page 1: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/1.jpg)
Электронная литография-Фокусировка электронного пучка в точку < 10 nm
-Очень маленькая длина волны –нет дифракционных ограничений
-Прямая зарисовка структуры, не нужны маски
Но, последовательная зарисовка –небольшая производительность
-Разрешение зависит от используемогорезиста
С помощью электронной литографии создают экспериментальные партии илиединичные структуры, гибкий метод.
![Page 2: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/2.jpg)
Электронные резистыСпециальные материалы, чувствительные к воздействию электронноголуча. Бывают также позитивные и негативные. У позитивного резиста увеличивается растворимость областей, проэкспонированных электронным пучком – т.е. при проявлении с облученной области резист будет удаляться легче.
Позитивные резисты – гораздо большее применение, более высокая разрешающая способность, меньше технологических операцийменее чувствительны к изменению параметров технологическогопроцесса.
Чувствительность - позитивного резиста характеризует дозу, которую необходимо передать участку этого резиста для его полного проявления за приемлемое время (обычно 1-2 минуты). Чувствительность, каки дозу экспонирования электронного резиста, обычно измеряют в Кл/см2
(Зависит и от размеров структуры. Для точного определения – дозовый тест)
![Page 3: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/3.jpg)
Контрастность – характеристика крутизны рельефа после проявления. Определение контрастности: Зависимость приведенной остаточной толщины резиста от приведенной дозы Экпонирования (в log - масштабе).
Приведенная толщина – h/h0 – это остаточная толщина резиста после проявления к начальной толщине.
Приведенная доза – отношение дозы экспонирования к чувствительности.
D1-наибольшая доза, при которой резист не проявляетсяD0-минимальная доза, при которой резистпроявляется полностьюДозовая кривая
![Page 4: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/4.jpg)
Взаимодействие электронов с резистом
Органический резист PMMA
Не растворимый Растворимый
Характерная энергия разрыва связи – 10eV
Характерная энергия электронов в пучке – 10keV
![Page 5: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/5.jpg)
Так же бывают двойные резисты, которые в зависимости от дозы излученияведут себя как позитивные и негативные при большей дозе. Например
PMMA и AZ5214E.
JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, VOL. 12, NO. 5, OCTOBER 2003
Резист AZ5214E – это позитивный фоторезист, но при
большей дозе засветкии при дополнительном нагревании его можно
использовать как негативный фоторезист. AZ5214E
используется так же как и негативный электронный резист
Маска из AZ5214E
PMMA – позитивный электронный резист,Но при больших дозах экспонирования в нем происходит процесс«сшивания» (cross-link) и его также можно использовать как негативный.
![Page 6: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/6.jpg)
Электронные микроскопы
JEOL
Электронный литограф с лазерным столиком позволяет точно зарисовывать
подложки большой площади
Электронный микроскоп,систему литографии можно добавить
отдельно
![Page 7: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/7.jpg)
Схема электронного микроскопа-литографа
![Page 8: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/8.jpg)
В обычных системах зарисовка производится на напряжениях 20-30 kV
Обратное рассеяние электронов в материале подложки – приводит кдополнительной засветке – эффект близости
Прямое рассеяние электронов – зависит от резиста, уменьшение разрешения
![Page 9: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/9.jpg)
Эффект близостиПаразитный эффект, не позволяющий четко прорисовывать структуры.
Реальная засветка
Желаемая структура
Как бороться с эффектом близости?
-Засветка электронами больших энергий. Например, с ускоряющимнапряжением 50kV
-Использование очень низкие энергии электронов, но тогда большую роль будет играть прямое рассеяние
-Использование специального программного обеспечения,которое позволяет более точно рассчитать дозу в зависимости отформы структуры
- Использование мембран в качестве подложек
![Page 10: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/10.jpg)
Литография для метода теневого напыления
PMMA
MMA
SiO
PMMA
MMA
SiO
PMMA
MMA
SiO
PMMA
MMA
SiO
SiO
lift-off
Используется 2 резиста с разной чувствительностью
Al/AlOx/Al
Метод позволяет создавать сложные многослойные наноструктуры за одну литографию и один вакуумный циклнанесения плёнок
![Page 11: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/11.jpg)
Примеры структур, изготовленных при помощи электронной литографии
Карта мира. ИПТМ РАН
![Page 12: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/12.jpg)
Примеры использования – сверхпроводящие структуры. Эффект Джозефсона.
IU
+ _
+ _
200 nm
![Page 13: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/13.jpg)
Al AlAl Cu
Al Cu AlCu
INT FZK Germany
![Page 14: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/14.jpg)
![Page 15: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/15.jpg)
![Page 16: Электронная литография - MIPT · pmma и az5214e. journal of microelectromechanical systems, vol. 12, no. 5, october 2003 Резист az5214e –это позитивный](https://reader034.fdocuments.net/reader034/viewer/2022042201/5ea14c070a8f2a2423575c8d/html5/thumbnails/16.jpg)
Carbon nanotubes
Nanowires
Полупроводниковые нанопровода